公开(公告)号：CN101278238A

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200680036076.3

申请日：2006-09-05

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： S·霍姆斯 ,  古川俊治 ,  C·科伯格三世 ,  N·姆曼

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/11

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/11 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70958

Abstract: 提供了一种浸没光刻系统，其包括可用于产生具有标称波长的光的光源和光学成像系统。该光学成像系统具有在从光源到待由其构图的物件的光路上的光学元件。所述光学元件具有适于接触液体的表面，该液体占据该表面和该物件之间的空间。该光学元件包括可由该液体降解的材料以及覆盖该表面上的可降解材料以保护该表面不受液体影响的保护涂层，该保护涂层对光透明、当暴露于光时稳定且当暴露于液体时稳定。

公开(公告)号：CN101278238B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200680036076.3

申请日：2006-09-05

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： S·霍姆斯 ,  古川俊治 ,  C·科伯格三世 ,  N·姆曼

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/11

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/11 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70958

Abstract: 提供了一种浸没光刻系统，其包括可用于产生具有标称波长的光的光源和光学成像系统。该光学成像系统具有在从光源到待由其构图的物件的光路上的光学元件。所述光学元件具有适于接触液体的表面，该液体占据该表面和该物件之间的空间。该光学元件包括可由该液体降解的材料以及覆盖该表面上的可降解材料以保护该表面不受液体影响的保护涂层，该保护涂层对光透明、当暴露于光时稳定且当暴露于液体时稳定。