公开(公告)号：CN1271458C

公开(公告)日：2006-08-23

申请号：CN200310116489.0

申请日：2003-11-19

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 岡田训明 ,  上田稔

IPC: G02F1/1335

CPC classification number: G02F1/133526 ,  G02F2001/133623 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0007

Abstract: 本发明提供通过利用第1微透镜阵列而对第2微透镜阵列的透镜形状进行制作图形，而使光轴的一致简单化，并能简化制作工序的微透镜基板的制作方法。对作成圆柱形形状的第2微透镜阵列(7)的透镜形状的制作图形，通过将紫外光照射在第1微透镜阵列(4)上来进行。使从可改变位置的线光源射出的光、通过准直透镜(37)和第1微透镜(4)在微透镜焦点面上成像，对通过涂布在其面上形成的保护层(22)进行曝光。通过一边使线光源的位置变化一边进行曝光，能获得所需圆柱形状的保护层图形。然后，进行蚀刻，将保护层图形的形状复制在中间玻璃层(5)上，用高折射率的紫外线硬化树脂埋没凹部。

公开(公告)号：CN1503039A

公开(公告)日：2004-06-09

申请号：CN200310116489.0

申请日：2003-11-19

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 岡田训明 ,  上田稔

IPC: G02F1/1335

CPC classification number: G02F1/133526 ,  G02F2001/133623 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0007

Abstract: 本发明提供通过利用第1微透镜阵列而对第2微透镜阵列的透镜形状进行制作图形，而使光轴的一致简单化，并能简化制作工序的微透镜基板的制作方法。对作成圆柱形形状的第2微透镜阵列(7)的透镜形状的制作图形，通过将紫外光照射在第1微透镜阵列(4)上来进行。使从可改变位置的线光源射出的光、通过准直透镜(37)和第1微透镜(4)在微透镜焦点面上成像，对通过涂布在其面上形成的保护层(22)进行曝光。通过一边使线光源的位置变化一边进行曝光，能获得所需圆柱形状的保护层图形。然后，进行蚀刻，将保护层图形的形状复制在中间玻璃层(5)上，用高折射率的紫外线硬化树脂埋没凹部。