公开(公告)号：CN1392451A

公开(公告)日：2003-01-22

申请号：CN02124372.7

申请日：2002-06-17

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 箕浦洁 ,  植木俊 ,  伊藤康尚 ,  伊原一郎 ,  泽山丰 ,  谷口幸治

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/00 ,  G02B5/124 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02F1/133553 ,  G02B5/124 ,  G02F1/1334

Abstract: 一种制造微隅角棱镜阵列的方法，包括以下步骤：制备基底，它的至少一个表面部分包括立方单晶体，并且它具有一个实质平行于晶体{111}平面的表面；各向异性地蚀刻基底表面，以此在基底表面上形成多个微隅角棱镜阵列单元。每个所述单元由多个晶体平面构成，以低于晶体{111}平面蚀刻率的蚀刻率形成晶体平面。

公开(公告)号：CN100406921C

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN02124372.7

申请日：2002-06-17

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 箕浦洁 ,  植木俊 ,  伊藤康尚 ,  伊原一郎 ,  泽山丰 ,  谷口幸治

IPC: G02B5/124

CPC classification number: G02F1/133553 ,  G02B5/124 ,  G02F1/1334

Abstract: 一种制造微隅角棱镜阵列的方法，包括以下步骤：制备基底，它的至少一个表面部分包括立方单晶体，并且它具有一个实质平行于晶体{111}平面的表面；各向异性地蚀刻基底表面，以此在基底表面上形成多个微隅角棱镜阵列单元。每个所述单元由多个晶体平面构成，以低于晶体{111}平面蚀刻率的蚀刻率形成晶体平面。

公开(公告)号：CN1193256C

公开(公告)日：2005-03-16

申请号：CN02159793.6

申请日：2002-12-26

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 澤山豊 ,  箕浦潔 ,  伊原一郎 ,  谷口幸治 ,  藤原小百合

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/1343 ,  G02B5/124

CPC classification number: G02F1/133553 ,  G02B5/124 ,  G02F1/134309

Abstract: 一种显示器件包括光调制介质层、隅角反射器阵列和反射电极层。隅角反射器阵列设置在光调制介质层一侧并包括多个隅角反射器作为它的单元元件。反射电极层设置在隅角反射器阵列上并包括多个反射电极，它们相互间隔开并被用于施加电压到光调制介质层。当从隅角阵列上方观察显示器件时，隅角反射器的排列方式和反射电极的排列方式在至少一个方向上匹配。

公开(公告)号：CN1430091A

公开(公告)日：2003-07-16

申请号：CN02159793.6

申请日：2002-12-26

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 澤山豊 ,  箕浦潔 ,  伊原一郎 ,  谷口幸治 ,  藤原小百合

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/1343 ,  G02B5/124

CPC classification number: G02F1/133553 ,  G02B5/124 ,  G02F1/134309

Abstract: 一种显示器件包括光调制介质层、隅角反射器阵列和反射电极层。隅角反射器阵列设置在光调制介质层一侧并包括多个隅角反射器作为它的单元元件。反射电极层设置在隅角反射器阵列上并包括多个反射电极，它们相互间隔开并被用于施加电压到光调制介质层。当从角隅阵列上方观察显示器件时，隅角反射器的排列方式和反射电极的排列方式在至少一个方向上匹配。