紫外纳米压印用光固化压印胶
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116382033A

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202310233138.5

    申请日:2023-03-13

    Abstract: 本发明公开了一种紫外纳米压印用光固化压印胶,其特征在于:所述光固化压印胶由以下重量份数的组分组成:丙烯酸酯预聚物60~80份、乙氧化双酚A二甲基丙烯酸酯40~50份、聚乙二醇二丙烯酸酯8~12份、2,4,6‑三甲基苯甲酰基‑二苯基氧化磷1~2份、二苯甲酮2~4份、安息香乙醚0.3~0.8份、偶联剂0.3~3份、分散剂0.1~1份、双官含氟丙烯酸酯0.3~1份、三亚乙基四胺0.1~0.5份、流平剂0.1~3份。本发明紫外纳米压印用光固化压印胶减少固化过程中的氧阻聚,使得压印胶固化完全,从而提高图形压印精度。

    紫外光固化胶的压印工艺
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116339072A

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN202310233136.6

    申请日:2023-03-13

    Abstract: 本发明公开了一种紫外光固化胶的压印工艺,包括以下步骤:按重量份称取丙烯酸酯预聚物、乙氧化双酚A二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、2,4,6‑三甲基苯甲酰基‑二苯基氧化磷、二苯甲酮、安息香乙醚、偶联剂、分散剂、双官含氟丙烯酸酯、三亚乙基四胺、流平剂,充分混合均匀可得到紫外光固化胶;将紫外光固化胶在衬底上旋转涂膜;通过模板压印转移图形至涂膜上;通过紫外光对涂膜固化;对具有涂膜的衬底刻蚀,从而将图形转移至衬底上。本发明紫外纳米压印用光固化压印胶减少固化过程中的氧阻聚,使得压印胶固化完全,从而提高图形压印精度。

    UV固化高耐磨光学纹理转印胶及转印膜

    公开(公告)号:CN116396719A

    公开(公告)日:2023-07-07

    申请号:CN202310249699.4

    申请日:2023-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种UV固化高耐磨光学纹理转印胶及转印膜,该转印胶的制备原料按重量份计包括:预聚物50‑80份,活性稀释剂5‑15份,溶剂20‑40份,光引发剂3‑5份,助剂2‑5份;预聚物包括15官能度的氟碳改性UV树脂、6‑9官能度的纳米粒子改性UV树脂、2‑3官能度的聚氨酯丙烯酸酯中的一种或多种。本发明提供的转印胶适用于当下电子产品外观件纹理层的制备,具有UV固化速度快,效率高,同时兼具优异的耐磨擦、抗指纹、光学、弯折性能等优点;本发明的转印胶对用其制备的纹理的耐用性及耐老化性均起到了明显的优化作用,对比市面常见的转印胶,更符合新时代手机、笔电、平板等电子消费品外观件的纹理层构建需求。

    显示屏用防爆保护膜
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN216711985U

    公开(公告)日:2022-06-10

    申请号:CN202123269506.7

    申请日:2021-12-23

    Abstract: 本实用新型公开了一种显示屏用防爆保护膜,包括光学胶层、贴合于所述光学胶层上表面的依次交替的塑料基材层和粘接层,所述塑料基材层和粘接层的层数之和不低于七层。本实用新型的显示屏用防爆保护膜,结构设计简单,通过对整体层数、粘接层胶黏剂种类、粘接层的储能模量和剥离力的设计,使得保护膜在总厚度不超过220μm的情况下,同时具备优异的抗冲击性能和光学性能,不易破碎。

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