一种检测煤矿气体的红外气体传感器及其使用方法

    公开(公告)号:CN117451654B

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202311220607.6

    申请日:2023-09-21

    Abstract: 本发明提供了一种检测煤矿气体的红外气体传感器及其使用方法,包括:安装组件和外壳;安装组件上设有光源和探测器;且光源与探测器均与微处理器电信号连接;探测器上开设有四个通道,四个通道内分别设置有测量水蒸气吸收光谱滤光片、测量甲烷吸收光谱滤光片、测量二氧化硫吸收光谱滤光片和参比吸收光谱滤光片;外壳的扣合于安装组件上,外壳的上端开设有安装孔,安装孔内设置滤网。本发明通过设置四个滤光片可以同时完成三种气体的检测,排除了水蒸气较强吸收性和气体吸收谱有交叠的问题,且有参考光路,更适合在煤矿等具有多种气体的环境中工作,使得测量的准确性更高;且将其放置于外壳中,体积更小,造价更便宜。

    一种多台阶微流道结构的工艺制备方法

    公开(公告)号:CN117800280A

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202311644645.4

    申请日:2023-12-04

    Abstract: 本发明提供了一种多台阶微流道结构的工艺制备方法,包括:步骤S1,制备氧化硅掩膜层;步骤S2,制备两处第一开窗;步骤S3,腐蚀两个第一开窗下方的氧化硅掩膜层,并于光刻胶层上制备第二开窗;步骤S4,腐蚀两个第一开窗和第二开窗下方的氧化硅掩膜层,并于光刻胶层上制备第三开窗;步骤S5,腐蚀第一、第二、第三开窗下方的氧化硅掩膜层并于单晶硅上刻蚀得到流道结构;步骤S6,腐蚀第二、第三开窗下方的氧化硅掩膜层并于单晶硅上刻蚀得到深槽阶梯结构;步骤S7,腐蚀第三开窗下方的氧化硅掩膜层并于单晶硅上刻蚀得到浅槽阶梯结构;步骤S8,去除氧化硅掩膜层并于单晶硅上表面键合衬底进行晶圆级封装。有益效果是本发明可实现多种深度槽结构的制备。

    一种基于MEMS代工模式的制备方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116040575A

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202211396220.1

    申请日:2022-11-09

    Abstract: 本发明提供了一种基于MEMS代工模式的制备方法,包括如下步骤:S1、获取客户需求的工艺信息;S2、将客户需求的工艺信息导入至工艺设计模块的数据库中,调整并导出每项工艺的工艺菜单和整个工艺流程;S3、将工艺流程导入至生产制备模块,调用每项工艺的工艺菜单,执行对应工艺制备产品,反馈生产情况,调整对应工艺的工艺参数;S4、将制备后的产品与客户需求的工艺信息进行比较判断是否合格,是则进入下一步,否则反馈不合格信息至步骤S3中;S5、入库。本发明将客户需求的工艺信息通过工艺设计模块的数据库进行初步调整,形成初步标准,再导入至生产制备中,调整各项工艺的工艺菜单后执行制备,使得整个制备模块化,易于实施。

    一种检测煤矿气体的红外气体传感器及其使用方法

    公开(公告)号:CN117451654A

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202311220607.6

    申请日:2023-09-21

    Abstract: 本发明提供了一种检测煤矿气体的红外气体传感器及其使用方法,包括:安装组件和外壳;安装组件上设有光源和探测器;且光源与探测器均与微处理器电信号连接;探测器上开设有四个通道,四个通道内分别设置有测量水蒸气吸收光谱滤光片、测量甲烷吸收光谱滤光片、测量二氧化硫吸收光谱滤光片和参比吸收光谱滤光片;外壳的扣合于安装组件上,外壳的上端开设有安装孔,安装孔内设置滤网。本发明通过设置四个滤光片可以同时完成三种气体的检测,排除了水蒸气较强吸收性和气体吸收谱有交叠的问题,且有参考光路,更适合在煤矿等具有多种气体的环境中工作,使得测量的准确性更高;且将其放置于外壳中,体积更小,造价更便宜。

    一种晶圆夹具
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219685284U

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202321250505.4

    申请日:2023-05-23

    Abstract: 本实用新型提供了一种晶圆夹具,包括第一夹头、第二夹头、第一夹臂和第二夹臂,所述第一夹头和/或所述第二夹头的表面设有感温镀层,所述感温镀层在所述第一夹头和所述第二夹头在夹持晶圆时,可以根据所述晶圆温度变化显示对应颜色,在夹持晶圆的过程中便可以快速感知晶圆温度变化,无需再使用特定测温装置,有效简化了感知晶圆温度变化的流程,减少了晶圆的制备时间,提高了生产效率。

    一种用于取放光刻版的真空吸笔

    公开(公告)号:CN220189603U

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN202320917777.9

    申请日:2023-04-23

    Abstract: 本实用新型属于光刻机技术领域,提供了一种用于取放光刻版的真空吸笔,包括笔柄,所述笔柄为中空结构,所述笔柄的上端连接有真空吸管,所述真空吸管与抽真空设备连接,所述笔柄的下端连接有至少两个支架,所述支架为中空结构,所述支架的一端连接有吸盘,所述吸盘用于与光刻版上无图形分布区域吸附连接,所述笔柄上设有真空开关,所述真空开关与抽真空设备通讯连接。与现有技术相比,本实用新型的优点在于:通过吸盘真空吸附在光刻版上无图形分布区域对光刻版进行拿取,保证光刻版不会被污染,并且使用安全,光刻版不再存在脱落危险。

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