公开(公告)号：CN116222415B

公开(公告)日：2023-11-28

申请号：CN202211556550.2

申请日：2022-12-06

Applicant: 安徽至博光电科技股份有限公司

Inventor： 俞本立 ,  时金辉 ,  郝文良 ,  汪辉

IPC: G01B11/24

Abstract: 本发明公开了一种基于单波长‑双FP腔的表面形貌测量装置及测量方法，涉及表面形貌测量领域。单波长光经过光纤耦合器1分别输入到两个FP干涉仪，所形成的两路干涉光注入光电探测器并转化为两路电信号，数据处理模块提取出电信号间的相位差；两个FP干涉仪为两个光纤反射端面分别与参考面和待测面构成，固定反射端面与参考面的横向空间位置，使另一个光纤反射端面与待测表面发生相对横向位移，所构成的FP干涉仪腔长受到待测面形貌的调制，其调制量通过相位差的变化表示，进而通过相位差的变化表征待测面的形貌。

公开(公告)号：CN116222415A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202211556550.2

申请日：2022-12-06

Applicant: 安徽至博光电科技股份有限公司

Inventor： 俞本立 ,  时金辉 ,  郝文良 ,  汪辉

IPC: G01B11/24

Abstract: 本发明公开了一种基于单波长‑双FP腔的表面形貌测量装置及测量方法，涉及表面形貌测量领域。单波长光经过光纤耦合器1分别输入到两个FP干涉仪，所形成的两路干涉光注入光电探测器并转化为两路电信号，数据处理模块提取出电信号间的相位差；两个FP干涉仪为两个光纤反射端面分别与参考面和待测面构成，固定反射端面与参考面的横向空间位置，使另一个光纤反射端面与待测表面发生相对横向位移，所构成的FP干涉仪腔长受到待测面形貌的调制，其调制量通过相位差的变化表示，进而通过相位差的变化表征待测面的形貌。