公开(公告)号：CN108929633A

公开(公告)日：2018-12-04

申请号：CN201810516084.2

申请日：2018-05-25

Applicant: 富士胶片平面解决方案有限公司

Inventor： 梁燕南 ,  温立清 ,  胡斌 ,  李孝相 ,  张书维 ,  蔡林松 ,  林大为

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02 ,  H01L21/3212 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明涉及用于钴应用的化学机械抛光浆料。一种对包含钴的表面或基材进行抛光的浆料。所述浆料进一步包含各自具有磷酸根基团、长链烷基或二者的阴离子和/或阳离子表面活性剂。所述浆料还包含腐蚀抑制剂、磨料、去除速率增强剂、溶剂、pH调节剂和螯合剂。所述浆料的pH优选为8或更高。