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公开(公告)号：CN113994262B
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202080044332.3
申请日：2020-06-29
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种分辨率及高速下的层压性优异的感光性转印部件、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法。感光性转印部件依次具有临时支承体、中间层及感光性树脂层，所述中间层具有热塑性树脂层，上述感光性树脂层的厚度小于5μm，并且上述临时支承体及上述中间层的合计厚度为35μm以下。
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公开(公告)号：CN117806081A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202311167729.3
申请日：2023-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02F1/1362 , G06F3/044 , H10K59/131 , H10K59/40 , H10K59/12 , G02F1/1333 , G02F1/1335 , G02F1/1343 , G03F7/20 , G09F9/33 , G09F9/35
Abstract: 本发明的课题在于提供一种层压适宜性优异且迁移的发生得到抑制的层叠体及层叠体的制造方法。本发明提供一种层叠体及层叠体的制造方法，上述层叠体具有：基材；及布线部，其在上述基材上依次层叠有透明布线层及金属布线层，上述金属布线层的宽度R1及上述透明布线层的宽度R2满足下述式(1)。0.1μm≤R2‑R1≤6.0μm(1)。
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公开(公告)号：CN115480446A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202210557670.8
申请日：2022-05-19
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种转印膜，其适用于具有透明基材及配置于透明基材的两面的透明导电层的带透明导电层的基材的两面，其中，从在上述带透明导电层的基材的两面配置转印膜而成的层叠体的两侧进行曝光时，可抑制曝光雾化且所形成的树脂图案的分辨率也优异。并且，提供一种层叠体、图案形成方法及电路板的制造方法。本发明还提供一种转印膜，其适用于具有透明基材及配置于上述透明基材的两面的透明导电层的带透明导电层的基材，该转印膜具有临时支承体及至少包含感光性层的组合物层，上述组合物层包含在与上述感光性层的最大灵敏度波长不同的波长处具有极大吸收波长的色素，上述感光性层的最大灵敏度波长与上述色素的极大吸收波长之差为40nm以上。
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公开(公告)号：CN113678062A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027370.8
申请日：2020-03-24
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性转印材料、以及使用了上述转印材料的树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法，所述感光性转印材料依次具有临时支承体、热塑性树脂层、中间层及负型感光性层，上述热塑性树脂层含有：碱溶性树脂A；色素B，显色时的波长范围400nm～780nm中的最大吸收波长为450nm以上，通过酸、碱或自由基而最大吸收波长发生变化；及化合物C，通过光产生酸、碱或自由基。
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公开(公告)号：CN113056373A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201980075793.4
申请日：2019-11-07
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种依次具有临时支承体、包含水溶性树脂的中间层及正型感光性树脂层，且上述中间层包含具有氟原子的表面活性剂的转印材料，以及使用上述转印材料的树脂图案的制造方法、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法。
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公开(公告)号：CN111684359A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201980011644.1
申请日：2019-02-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种感光性转印材料、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法，依次具有临时支承体、中间层及抗蚀剂层，中间层含有(A)成分：显色时的波长范围400nm～780nm的极大吸收波长为450nm以上且极大吸收波长通过酸、碱或自由基产生变化的色素。
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公开(公告)号：CN111279262A
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201880059310.7
申请日：2018-09-18
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性转印材料以及使用上述感光性转印材料的电路布线的制造方法及触控面板的制造方法。所述感光性转印材料具有：临时支承体；及感光性树脂层，包含含有具有酸基被酸分解性基保护的基团的结构单元的聚合物及光产酸剂，在上述临时支承体与上述感光性树脂层之间具有至少1层含有氨基甲酸酯化合物或改性烯烃化合物的层。
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公开(公告)号：CN102597126A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080048744.0
申请日：2010-08-26
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C09B57/004 , C09B67/0002 , C09B67/0022 , C09B67/003 , C09B67/0033 , C09B67/0039 , G02B5/223
Abstract: 着色材料分散体，其具有：颗粒生长抑制剂；和二氯二酮吡咯并吡咯颜料的着色材料微粒，所述着色材料微粒的α型结晶度为0.65至0.90，在(-151)晶面方向上的晶粒尺寸为6.0nm至13.0nm，在(111)晶面方向上的晶粒尺寸为5.0nm至23.0nm。
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公开(公告)号：CN116635790A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202180085868.4
申请日：2021-12-20
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种感光性转印材料、以及层叠体的制造方法、使用上述感光性转印材料的树脂图案的制造方法、蚀刻方法及电子器件的制造方法，所述感光性转印材料具有临时支承体及包含烯属不饱和化合物的感光性层，其中，利用超高压汞灯以波长365nm的能量密度100mJ/cm2对上述感光性层进行曝光的情况下，在上述临时支承体的剥离前后曝光的上述感光性层中的烯属不饱和键消失率之比为70％～100％。
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