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公开(公告)号：CN104919369A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201480004278.4
申请日：2014-01-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种负型抗蚀剂组合物、使用其的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及具备抗蚀剂膜的空白掩模，上述负型抗蚀剂组合物可形成解析性(例如解析力、图案形状、线边缘粗糙度(LER))、曝光后加热(PEB)温度依存性及曝光后线宽(PED)稳定性优异的图案。本发明的负型抗蚀剂组合物含有：在阳离子部分中含有氮原子的鎓盐化合物(A)、通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)、以及含酸交联性基的化合物(C)。
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公开(公告)号：CN103460133A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280016092.1
申请日：2012-02-17
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F12/14 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/20 , C08F8/14 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08J3/24 , C08J2325/18 , G03F1/50 , G03F7/004 , G03F7/0382 , G03F7/325 , Y10S430/143 , C08F212/32
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂图案形成方法，依序包含：(1)使用负型化学增幅型抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜，其中负型化学增幅型抗蚀剂组合物含有如下组分：具有如在本说明书中所定义的由式(1)表示的重复单元的(A)聚合物化合物、(B)能够在用光化射线或辐射照射后产生酸的化合物以及(C)能够由酸的作用交联聚合物化合物(A)的交联剂；(2)使抗蚀剂膜曝光，从而形成经曝光的抗蚀剂膜；以及(4)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的抗蚀剂膜显影。
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公开(公告)号：CN103329045A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201180065257.X
申请日：2011-12-22
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F257/00 , C08K5/19 , C09D125/18 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F1/56 , G03F1/76 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2037 , G03F7/2039 , C08F212/32 , C08L25/18 , C08F2220/185 , C08F220/42
Abstract: 一种化学增幅型光阻组成物，含有：(A)具有酚羟基的氢原子经具有酸不可分解多环脂环族烃结构的基团置换的结构的聚合化合物；以及(B)能够在用光化射线或辐射照射后产生酸的化合物。
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公开(公告)号：CN103329045B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201180065257.X
申请日：2011-12-22
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F257/00 , C08K5/19 , C09D125/18 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F1/56 , G03F1/76 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2037 , G03F7/2039 , C08F212/32 , C08L25/18 , C08F2220/185 , C08F220/42
Abstract: 一种化学增幅型光阻组成物、光阻膜、空白光罩、光阻图案形成方法、光罩及聚合化合物，化学增幅型光阻组成物含有：(A)具有酚羟基的氢原子经具有酸不可分解多环脂环族烃结构的基团置换的结构的聚合化合物；以及(B)能够在用光化射线或辐射照射后产生酸的化合物。
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公开(公告)号：CN104919369B
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201480004278.4
申请日：2014-01-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种负型抗蚀剂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、空白掩模、及电子组件与其制造方法，上述负型抗蚀剂组合物可形成解析性(例如解析力、图案形状、线边缘粗糙度(LER))、曝光后加热(PEB)温度依存性及曝光后线宽(PED)稳定性优异的图案。本发明的负型抗蚀剂组合物含有：在阳离子部分中含有氮原子的鎓盐化合物(A)、通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)、以及含酸交联性基的化合物(C)。
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公开(公告)号：CN102834774B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201180007408.6
申请日：2011-01-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F8/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: C08F8/00 , C08F8/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F112/14
Abstract: 一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含(P)具有由下式(1)表示的重复单元的树脂；一种使用所述组合物的光阻膜；以及一种图案形成方法。
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公开(公告)号：CN102834774A
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201180007408.6
申请日：2011-01-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F8/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: C08F8/00 , C08F8/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F112/14
Abstract: 一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含(P)具有由下式(1)表示的重复单元的树脂；一种使用所述组合物的光阻膜；以及一种图案形成方法。
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