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公开(公告)号：CN105900013B
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201480072319.3
申请日：2014-12-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感活性光线性或感放射线性树脂组合物，该组合物为含有具有酚性羟基的碱可溶性树脂(A)、以及分子内合计具有2个以上的羟基甲基或烷氧基甲基的交联剂(C)的感活性光线性或感放射线性树脂组合物，其中，相对于包含交联剂(C1)的交联剂(C)的总量，以60摩尔％～100摩尔％的比例含有分子量为420以上且分子内合计具有2～4个羟基甲基或烷氧基甲基的交联剂(C1)，且相对于感活性光线性或感放射线性树脂组合物中的固体成分1g，交联剂(C)所具有的羟基甲基或烷氧基甲基的合计的浓度0.30mmol/g以上。
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公开(公告)号：CN104272189A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380023929.X
申请日：2013-05-10
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/05 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/31 , C07C381/12 , C08F212/14 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F212/14 , G03F1/00 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F1/50 , G03F1/56 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2059 , G03F7/30 , G03F7/322 , G03F7/325
Abstract: 根据本发明的化学增幅型抗蚀剂组合物包含(A)包括具有一个或多个氟原子的三芳基锍阳离子并且能够通过活性射线或辐射的照射而生成体积为以上的酸的化合物；和(B)包含酚羟基的化合物。
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公开(公告)号：CN103608728A
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201280028773.X
申请日：2012-06-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F8/00 , C08F212/14 , C08F220/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/004 , C08F8/00 , C08F12/26 , C08F12/30 , C08F212/14 , C08F257/00 , C09D125/18 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F1/56 , G03F1/78 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2004 , G03F7/2039 , C08F12/24 , C08F212/32
Abstract: 根据一个实施方案，一种光化射线或辐射敏感树脂组合物包含化合物(P)，所述化合物(P)含有至少一个酚羟基以及至少一个具有其氢原子被下面通式(1)的基团中的任一个取代的酚羟基的基团。
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公开(公告)号：CN103460133A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280016092.1
申请日：2012-02-17
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F12/14 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/20 , C08F8/14 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08J3/24 , C08J2325/18 , G03F1/50 , G03F7/004 , G03F7/0382 , G03F7/325 , Y10S430/143 , C08F212/32
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂图案形成方法，依序包含：(1)使用负型化学增幅型抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜，其中负型化学增幅型抗蚀剂组合物含有如下组分：具有如在本说明书中所定义的由式(1)表示的重复单元的(A)聚合物化合物、(B)能够在用光化射线或辐射照射后产生酸的化合物以及(C)能够由酸的作用交联聚合物化合物(A)的交联剂；(2)使抗蚀剂膜曝光，从而形成经曝光的抗蚀剂膜；以及(4)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的抗蚀剂膜显影。
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公开(公告)号：CN106133886A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580016286.5
申请日：2015-03-23
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/312 , C08F212/00 , C08F220/10 , H01L21/283 , H01L29/786 , H01L51/05 , H01L51/30
CPC classification number: H01L51/004 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F20/28 , C08F212/14 , C08F2500/02 , C08F2800/10 , C08F2810/20 , H01L21/02118 , H01L29/786 , H01L51/0043 , H01L51/0055 , H01L51/0071 , H01L51/0094 , H01L51/052 , H01L51/0545 , H01L51/0566 , C08F2220/325 , C08F212/32 , C08F220/36 , C08F2220/302 , C08F2220/343
Abstract: 本发明提供一种半导体元件及绝缘层形成用组成物，所述半导体元件具有半导体层、及与该半导体层相邻的绝缘层，在所述半导体元件中，所述绝缘层由高分子化合物的交联物形成，该高分子化合物具有以下述通式(IA)表示的重复单元(IA)和以下述通式(IB)表示的重复单元(IB)。通式(IA)中，R1a表示氢原子、卤原子或烷基。L1a及L2a分别独立地表示单键或连结基。X表示交联性基。m2a表示1～5的整数，当m2a为2以上时，m2a个X可以彼此相同也可以互不相同。m1a表示1～5的整数，当m1a为2以上时，m1a个(‑L2a‑(X)m2a)可以彼此相同也可以互不相同。通式(IB)中，R1b表示氢原子、卤原子或烷基。L1b表示单键或连结基，Ar1b表示芳香族环。m1b表示1～5的整数。
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公开(公告)号：CN106133601A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580017751.7
申请日：2015-03-12
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F1/22 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26 , G03F7/70283
Abstract: 本发明的课题在于提供一种经时稳定性优异、且解析性也优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、具备该膜的空白掩模、光掩模及图案形成方法、以及电子器件的制造方法及电子器件。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法是关于含有树脂、酸产生剂、有机酸及溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，其特征在于包含选自下述工序(i)、工序(ii)及工序(iii)的任意工序，且所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的有机酸的含有率是以该组合物中的所有固体成分为基准而言大于5质量％。(i)在实质上不含树脂及酸产生剂的溶液中溶解有机酸的工序，(ii)在含有酸产生剂、且实质上不含树脂的溶液中溶解有机酸的工序，及(iii)在含有树脂、且实质上不含酸产生剂的溶液中溶解有机酸的工序。
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公开(公告)号：CN104919369A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201480004278.4
申请日：2014-01-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种负型抗蚀剂组合物、使用其的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及具备抗蚀剂膜的空白掩模，上述负型抗蚀剂组合物可形成解析性(例如解析力、图案形状、线边缘粗糙度(LER))、曝光后加热(PEB)温度依存性及曝光后线宽(PED)稳定性优异的图案。本发明的负型抗蚀剂组合物含有：在阳离子部分中含有氮原子的鎓盐化合物(A)、通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)、以及含酸交联性基的化合物(C)。
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公开(公告)号：CN101093355B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN200710112051.3
申请日：2007-06-22
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C09B23/107 , C09B23/0008 , C09B23/0066 , C09B23/0075 , C09B23/04 , C09B23/08
Abstract: 本发明提供一种滤色器用固化性组合物，其特征在于，含有：具有特定化学结构的增感剂、光聚合引发剂、聚合性化合物以及着色剂。另外，本发明还提供一种滤色器，其特征在于，具有使用该滤色器用固化性组合物形成的着色图案。此外，本发明提供一种滤色器的制造方法，其特征在于，包括下列工序：在支撑体上涂布该滤色器用固化性组合物而形成着色固化性组合物层的工序；将上述着色固化性组合物层通过掩模曝光的工序；和将曝光后的上述着色固化性组合物层显影而形成着色图案的工序。
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公开(公告)号：CN101983358B
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN200980111969.3
申请日：2009-02-17
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02F1/133512 , G03F7/0007 , G03F7/032 , G03F7/035 , G03F7/0388 , G03F7/105
Abstract: 本发明涉及一种聚合性组合物，其至少含有聚合性化合物、粘结剂聚合物、光聚合引发剂和钛黑分散物，并且所述聚合性化合物的含量相对于所述粘结剂聚合物的含量的质量比大于1。
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