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公开(公告)号:CN118886220B
公开(公告)日:2025-03-21
申请号:CN202411015596.2
申请日:2024-07-26
Applicant: 山东大学
IPC: G06F30/20 , G06F17/11 , G06F111/10 , G06F119/08 , G06F119/14
Abstract: 本发明公开一种基于UDS的KDP晶体表面过饱和度模拟计算方法,涉及晶体生长数值模拟技术领域,包括:建立晶体生长槽物理几何模型,对物理几何模型进行网格划分后,导入至Fluent仿真软件;基于用户自定义标量方程UDS,耦合流体湍流、能量方程,建立KDP晶体生长系统溶质传输方程;基于KDP晶体表面溶质反应边界条件,编写用户自定义函数UDF,并基于用户自定义存储UDM,存储KDP溶液平衡浓度,挂载平衡浓度随温度变化的自定义函数,以此构造晶体表面生长速率自洽函数;耦合所建立的方程及函数,建立KDP晶体生长系统的数学模型,设置数学模型的计算域条件及边界条件,计算求解得到KDP晶体生长系统的过饱和度分布。
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公开(公告)号:CN118886220A
公开(公告)日:2024-11-01
申请号:CN202411015596.2
申请日:2024-07-26
Applicant: 山东大学
IPC: G06F30/20 , G06F17/11 , G06F111/10 , G06F119/08 , G06F119/14
Abstract: 本发明公开一种基于UDS的KDP晶体表面过饱和度模拟计算方法,涉及晶体生长数值模拟技术领域,包括:建立晶体生长槽物理几何模型,对物理几何模型进行网格划分后,导入至Fluent仿真软件;基于用户自定义标量方程UDS,耦合流体湍流、能量方程,建立KDP晶体生长系统溶质传输方程;基于KDP晶体表面溶质反应边界条件,编写用户自定义函数UDF,并基于用户自定义存储UDM,存储KDP溶液平衡浓度,挂载平衡浓度随温度变化的自定义函数,以此构造晶体表面生长速率自洽函数;耦合所建立的方程及函数,建立KDP晶体生长系统的数学模型,设置数学模型的计算域条件及边界条件,计算求解得到KDP晶体生长系统的过饱和度分布。
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公开(公告)号:CN116555885A
公开(公告)日:2023-08-08
申请号:CN202310536092.4
申请日:2023-05-12
Applicant: 山东大学
Abstract: 本发明涉及一种梯度掺氘DKDP晶体生长装置及DKDP晶体生长方法,包括恒温供液装置、蠕动泵和晶体生长装置,所述晶体生长装置包括外壳,外壳内部设置有恒温水槽,恒温水槽的底部设置有控温装置Ⅱ,外壳的顶部设置有生长槽架,生长槽架上方竖直设置有电机,电机下方驱动连接有竖直的旋转轴,旋转轴底部向下延伸入外壳内,旋转轴的底端设置有晶架,在恒温水槽中设置有生长槽,晶架位于生长槽内,在晶体生长时,通过蠕动泵连续不断加入水或重水,当晶体在圆柱形玻璃管内定向生长时,生长溶液的氘含量是均匀变化的,形成了一定氘浓度梯度,使氘含量沿晶体生长方向变化,可以准确计算晶体生长量,从而控制蠕动泵传输速率,使氘含量变化均匀。
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