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公开(公告)号：CN101649448A
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200910166892.1
申请日：2009-08-26
Applicant: 兰州大成自动化工程有限公司 , 兰州大成真空科技有限公司 , 常州大成绿色镀膜科技有限公司
IPC: C23C14/56
Abstract: 本发明涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有1-5个A低真空室(20a)，1-3离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，2-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)；1-5个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；各真空室与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜，膜层厚度可独立进行控制，膜层均匀致密，附着力强，工艺重复性好、生产效率高适合工业化生产。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107314559B
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201710448452.X
申请日：2017-06-14
Applicant: 常州大成绿色镀膜科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种光热转换涂层及其制备方法，涂层包括基底上按照由下至上的顺序依次设置的扩散阻挡层、复合吸收层和减反射层；所述基底为具有红外反射功能的基底，扩散阻挡层为金属碳化物层，复合吸收层为金属掺杂的氢化类金刚石复合层a‑C:H/Me，减反射层为氢化类金刚石层。本发明的光热转换涂层太阳吸收比大于0.93，发射率在0.06～0.08之间，具有优异的光学性能。此外，涂层耐候性强，适用于平板集热器，并且涂层可在高温真空环境下使用。
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公开(公告)号：CN107314559A
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201710448452.X
申请日：2017-06-14
Applicant: 常州大成绿色镀膜科技有限公司
CPC classification number: C23C28/046 , C23C14/0036 , C23C14/0635 , C23C16/278 , F24S70/25
Abstract: 本发明公开了一种光热转换涂层及其制备方法，涂层包括基底上按照由下至上的顺序依次设置的扩散阻挡层、复合吸收层和减反射层；所述基底为具有红外反射功能的基底，扩散阻挡层为金属碳化物层，复合吸收层为金属掺杂的氢化类金刚石复合层a-C:H/Me，减反射层为氢化类金刚石层。本发明的光热转换涂层太阳吸收比大于0.93，发射率在0.06～0.08之间，具有优异的光学性能。此外，涂层耐候性强，适用于平板集热器，并且涂层可在高温真空环境下使用。
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公开(公告)号：CN107034442A
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201710454195.0
申请日：2017-06-16
Applicant: 常州大成绿色镀膜科技有限公司
CPC classification number: C23C14/542 , C23C14/24
Abstract: 本发明涉及一种基于CAN总线的真空镀膜蒸发源控制装置及其控制方法，该控制装置的主控制器包括微控制器、开关量调理模块、开关量输出驱动模块、模拟量输入调理模块、模拟量变换输出模块、CAN总线接口模块等。本装置在运行时能够对真空镀膜设备蒸发源进行全自动监督控制，保证蒸发功率的控制精度和稳定性，提高镀膜质量。所述的主控制器能够通过CAN总线实时获得管理计算机的控制命令和目标值，采集蒸发源主回路二次侧负载电流、电压和报警信息，根据预置的控制程序和算法进行分析计算，通过调节蒸发源主回路一次侧的电流电压，而对蒸发源负载功率进行调节。所述的主控制器在使用时还能够将蒸发源当前状态信息和电量信息上传给管理计算机。
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公开(公告)号：CN101649448B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200910166892.1
申请日：2009-08-26
Applicant: 兰州大成科技股份有限公司 , 兰州大成真空科技有限公司 , 常州大成绿色镀膜科技有限公司
IPC: C23C14/56
Abstract: 本发明涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有1-5个A低真空室(20a)，1-3离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，2-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)；1-5个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；各真空室与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜，膜层厚度可独立进行控制，膜层均匀致密，附着力强，工艺重复性好、生产效率高适合工业化生产。
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公开(公告)号：CN201553778U
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200920177232.9
申请日：2009-08-26
Applicant: 兰州大成科技股份有限公司 , 兰州大成真空科技有限公司 , 常州大成绿色镀膜科技有限公司
IPC: C23C14/56
Abstract: 本实用新型涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有1-3个A低真空室(20a)，1-3离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-5个高真空室(50)，1-5个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜，膜层厚度可独立进行控制，膜层均匀致密，附着力强适合工业化生产。
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