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公开(公告)号:CN118851776A
公开(公告)日:2024-10-29
申请号:CN202410778522.8
申请日:2024-06-17
IPC: C04B35/587 , B23B27/00 , C04B35/645
Abstract: 本发明属于非氧化物基材料技术领域,公开了一种具有高韧性和高硬度的氮化硅陶瓷及其制备方法和应用。该方法通过向α‑Si3N4粉中引入烧结助剂MgO‑Re2O3经混料,干燥后得到α‑Si3N4‑MgO‑Re2O3的混合粉体,将混合粉体放入放电等离子烧结炉模具后,在1atm的氮气气氛下,先升温至1700~1800℃预烧结并保温1~3min,预烧结压力1~10MPa;然后再降温至1500~1600℃烧结并保温5~20min,烧结压力30~50MPa,制得氮化硅陶瓷。本发明采用高温预烧结和低温烧结的两步放电等离子烧结工艺,实现高性能氮化硅陶瓷的制备。该氮化硅陶瓷具有高韧性和高硬度,可应用在切削刀具领域。
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公开(公告)号:CN117945763A
公开(公告)日:2024-04-30
申请号:CN202311853085.3
申请日:2023-12-29
IPC: C04B35/591 , C04B35/622
Abstract: 本发明属于陶瓷材料技术领域,公开了一种高性能的氮化硅陶瓷及其制备方法和应用。该方法是以Si粉为基体原料,以ZrO2‑YF3‑MgSiN2为烧结助剂,通过高能剪切混合处理得到逐层包覆的Si‑ZrO2‑MgSiN2‑YF3混合粉体,再经过氮化处理与后烧结处理,制得高性能高导热的氮化硅陶瓷。本发明氮化硅陶瓷的工艺过程简单,通过向Si粉引入ZrO2促进Si粉氮化且抑制α→β‑Si3N4的相变,又通过烧结助剂MgSiN2与YF3还原氮化处理生成的SiO2,从而降低了晶格氧含量,并且配合烧结工艺形成了互锁的致密双峰微观结构,陶瓷具有优异的力学性能和较高的热导率,可以用于汽车电子、航天航空等领域。
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公开(公告)号:CN119797930A
公开(公告)日:2025-04-11
申请号:CN202411954239.2
申请日:2024-12-27
Applicant: 广东工业大学
IPC: C04B35/581 , C04B35/587 , C04B35/622
Abstract: 本发明属于材料生产技术领域,公开了一种AlN/Si3N4复合陶瓷基板及其制备方法和应用。该复合陶瓷基板是将Si粉和烧结助剂EuO2‑HfO2‑MgO‑Yb2O3,通过流延工艺和n×m矩阵的圆柱模具制备Si基陶瓷素片;将Al2O3粉、C粉与Yb2O3粉,制备Al2O3‑C流延浆料,将Al2O3‑C流延浆料填补Si基陶瓷素片的圆孔中,得到Si‑Al2O3‑C复合陶瓷素片,在1320~1380℃经过氮化处理,然后经1600~1800℃反应烧结制得。该复合陶瓷基板以AlN陶瓷为导热通路,Si3N4陶瓷为力学支撑,具有优异的导热性能和力学性能。本发明生产稳定高效,可用于汽车电子、航天航空等领域。
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公开(公告)号:CN119735443A
公开(公告)日:2025-04-01
申请号:CN202411809478.9
申请日:2024-12-10
Applicant: 广东工业大学
IPC: C04B35/584 , C04B35/622 , C04B35/80 , H04M1/02
Abstract: 本发明属于非氧化物基材料技术领域,公开了一种高强度和高韧性的SiCf‑Si3N4‑Si复合陶瓷及其制备方法和应用。该SiCf‑Si3N4‑Si复合陶瓷是将Si粉、Al2O3粉和酚醛树脂粉加入无水乙醇混合球磨,得到浸渍料浆;将预处理的碳化硅纤维布完全浸没在浸渍料浆中,然后进行抽真空,通入压力为4~10MPa的保护气体并保压,干燥固化得到预制体;将预制体在1~10MPa的氮气压力下,升温至1800~1900℃烧结制得。本发明采用浸渍法和高温高压气压烧结工艺,实现制备高强度和高韧性SiCf‑Si3N4‑Si复合陶瓷,该复合陶瓷可应用在手机背板领域。
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