一种高性能的氮化硅陶瓷及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN117945763A

    公开(公告)日:2024-04-30

    申请号:CN202311853085.3

    申请日:2023-12-29

    Abstract: 本发明属于陶瓷材料技术领域,公开了一种高性能的氮化硅陶瓷及其制备方法和应用。该方法是以Si粉为基体原料,以ZrO2‑YF3‑MgSiN2为烧结助剂,通过高能剪切混合处理得到逐层包覆的Si‑ZrO2‑MgSiN2‑YF3混合粉体,再经过氮化处理与后烧结处理,制得高性能高导热的氮化硅陶瓷。本发明氮化硅陶瓷的工艺过程简单,通过向Si粉引入ZrO2促进Si粉氮化且抑制α→β‑Si3N4的相变,又通过烧结助剂MgSiN2与YF3还原氮化处理生成的SiO2,从而降低了晶格氧含量,并且配合烧结工艺形成了互锁的致密双峰微观结构,陶瓷具有优异的力学性能和较高的热导率,可以用于汽车电子、航天航空等领域。

    一种AlN/Si3N4复合陶瓷基板及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN119797930A

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202411954239.2

    申请日:2024-12-27

    Abstract: 本发明属于材料生产技术领域,公开了一种AlN/Si3N4复合陶瓷基板及其制备方法和应用。该复合陶瓷基板是将Si粉和烧结助剂EuO2‑HfO2‑MgO‑Yb2O3,通过流延工艺和n×m矩阵的圆柱模具制备Si基陶瓷素片;将Al2O3粉、C粉与Yb2O3粉,制备Al2O3‑C流延浆料,将Al2O3‑C流延浆料填补Si基陶瓷素片的圆孔中,得到Si‑Al2O3‑C复合陶瓷素片,在1320~1380℃经过氮化处理,然后经1600~1800℃反应烧结制得。该复合陶瓷基板以AlN陶瓷为导热通路,Si3N4陶瓷为力学支撑,具有优异的导热性能和力学性能。本发明生产稳定高效,可用于汽车电子、航天航空等领域。

    一种高强度和高韧性的SiCf-Si3N4-Si复合陶瓷及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN119735443A

    公开(公告)日:2025-04-01

    申请号:CN202411809478.9

    申请日:2024-12-10

    Abstract: 本发明属于非氧化物基材料技术领域,公开了一种高强度和高韧性的SiCf‑Si3N4‑Si复合陶瓷及其制备方法和应用。该SiCf‑Si3N4‑Si复合陶瓷是将Si粉、Al2O3粉和酚醛树脂粉加入无水乙醇混合球磨,得到浸渍料浆;将预处理的碳化硅纤维布完全浸没在浸渍料浆中,然后进行抽真空,通入压力为4~10MPa的保护气体并保压,干燥固化得到预制体;将预制体在1~10MPa的氮气压力下,升温至1800~1900℃烧结制得。本发明采用浸渍法和高温高压气压烧结工艺,实现制备高强度和高韧性SiCf‑Si3N4‑Si复合陶瓷,该复合陶瓷可应用在手机背板领域。

Patent Agency Ranking