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公开(公告)号：CN112384330A
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201980044800.4
申请日：2019-03-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿什温·乔卡林格 , 杰森·G·冯 , 斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 , 拉杰夫·巴贾 , 丹尼尔·雷德菲尔德
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及抛光垫和制造抛光垫的方法，其可以被使用于半导体装置制造中的化学机械抛光(CMP)工艺。本文所述的抛光垫的特征在于抛光垫材料的连续聚合物相，所述抛光垫材料的连续聚合物相包括一或多个第一材料域和多个第二材料域。所述一或多个第一材料域由第一预聚物组合物的聚合反应产物形成，所述多个第二材料域由第二预聚物组合物的聚合反应产物形成，该第二预聚物组合物与第一预聚物组合物不同，并且一或多个第一材料域和多个第二材料之间的界面区域由第一预聚物组合物和第二预聚物组合物的共聚合反应产物所形成。
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公开(公告)号：CN116372799A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202211653820.1
申请日：2019-03-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿什温·乔卡林格 , 杰森·G·冯 , 斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 , 拉杰夫·巴贾 , 丹尼尔·雷德菲尔德
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及抛光垫和制造抛光垫的方法，其可以被使用于半导体装置制造中的化学机械抛光(CMP)工艺。本文所述的抛光垫的特征在于抛光垫材料的连续聚合物相，所述抛光垫材料的连续聚合物相包括一或多个第一材料域和多个第二材料域。所述一或多个第一材料域由第一预聚物组合物的聚合反应产物形成，所述多个第二材料域由第二预聚物组合物的聚合反应产物形成，该第二预聚物组合物与第一预聚物组合物不同，并且一或多个第一材料域和多个第二材料之间的界面区域由第一预聚物组合物和第二预聚物组合物的共聚合反应产物所形成。
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公开(公告)号：CN112384330B
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN201980044800.4
申请日：2019-03-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿什温·乔卡林格 , 杰森·G·冯 , 斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 , 拉杰夫·巴贾 , 丹尼尔·雷德菲尔德
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及抛光垫和制造抛光垫的方法，其可以被使用于半导体装置制造中的化学机械抛光(CMP)工艺。本文所述的抛光垫的特征在于抛光垫材料的连续聚合物相，所述抛光垫材料的连续聚合物相包括一或多个第一材料域和多个第二材料域。所述一或多个第一材料域由第一预聚物组合物的聚合反应产物形成，所述多个第二材料域由第二预聚物组合物的聚合反应产物形成，该第二预聚物组合物与第一预聚物组合物不同，并且一或多个第一材料域和多个第二材料之间的界面区域由第一预聚物组合物和第二预聚物组合物的共聚合反应产物所形成。
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