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公开(公告)号：CN101369509A
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200810002722.5
申请日：2008-01-09
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/08 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/028 , H01J2237/31705
Abstract: 本发明涉及具有紧邻穿过离子注入器的离子束的路径的表面的部件。上述表面易于发生沉积，并且本发明解决与沉积材料的剥离相关的问题。本发明提供一种离子注入器部件，其具有至少部分地限定穿过所述离子注入器的离子束路径的表面，其中，所述表面的至少一部分被粗糙化。所述表面的所述部分被粗糙化以提供表面特征，所述表面特征至少部分由所述表面的相邻部分的取向的急剧变化而限定。
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