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公开(公告)号:CN103824569A
公开(公告)日:2014-05-28
申请号:CN201410088408.9
申请日:2010-02-12
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: G11B5/82 , C23C14/48 , C23C14/50 , C23C16/00 , C23F1/00 , G11B5/84 , G11B5/855 , H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供用于形成具有经磁性图案化的表面的基板的方法及装置。在一基板上形成包含具有磁性性质的一种或多种材料的一磁层。该磁层经受一图案化制程,在图案化制程中改变该磁层的该表面的选定部分,以使得该经改变的部分具有与非改变部分不同的磁性性质而不改变该基板的构形。在该经图案化的磁层上方沉积一保护层及一润滑层。该图案化经由将基板暴露于具有变动形式的能量的若干制程来实现。本文揭示的装置及方法使得能够同时处理一基板的两个主表面或藉由翻转相继处理一基板的两个主表面。在一些实施例中,该基板表面的磁性性质可藉由等离子体暴露来均匀地改变,且随后藉由暴露于经图案化的能量来选择性地复原磁性性质。
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公开(公告)号:CN103824569B
公开(公告)日:2017-07-04
申请号:CN201410088408.9
申请日:2010-02-12
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: G11B5/82 , C23C14/48 , C23C14/50 , C23C16/00 , C23F1/00 , G11B5/84 , G11B5/855 , H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供用于形成具有经磁性图案化的表面的基板的方法及装置。在一基板上形成包含具有磁性性质的一种或多种材料的一磁层。该磁层经受一图案化制程,在图案化制程中改变该磁层的该表面的选定部分,以使得该经改变的部分具有与非改变部分不同的磁性性质而不改变该基板的构形。在该经图案化的磁层上方沉积一保护层及一润滑层。该图案化经由将基板暴露于具有变动形式的能量的若干制程来实现。本文揭示的装置及方法使得能够同时处理一基板的两个主表面或藉由翻转相继处理一基板的两个主表面。在一些实施例中,该基板表面的磁性性质可藉由等离子体暴露来均匀地改变,且随后藉由暴露于经图案化的能量来选择性地复原磁性性质。
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公开(公告)号:CN102334161A
公开(公告)日:2012-01-25
申请号:CN201080009890.2
申请日:2010-02-12
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: G11B5/82 , C23C14/48 , C23C14/50 , C23C16/00 , C23F1/00 , G11B5/84 , G11B5/855 , H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供用于形成具有经磁性图案化的表面的基板的方法及装置。在一基板上形成包含具有磁性性质的一种或多种材料的一磁层。该磁层经受一图案化制程,在图案化制程中改变该磁层的该表面的选定部分,以使得该经改变的部分具有与非改变部分不同的磁性性质而不改变该基板的构形。在该经图案化的磁层上方沉积一保护层及一润滑层。该图案化经由将基板暴露于具有变动形式的能量的若干制程来实现。本文揭示的装置及方法使得能够同时处理一基板的两个主表面或藉由翻转相继处理一基板的两个主表面。在一些实施例中,该基板表面的磁性性质可藉由等离子体暴露来均匀地改变,且随后藉由暴露于经图案化的能量来选择性地复原磁性性质。
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公开(公告)号:CN102334161B
公开(公告)日:2015-09-23
申请号:CN201080009890.2
申请日:2010-02-12
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: G11B5/82 , C23C14/48 , C23C14/50 , C23C16/00 , C23F1/00 , G11B5/84 , G11B5/855 , H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供用于形成具有经磁性图案化的表面的基板的方法及装置。在一基板上形成包含具有磁性性质的一种或多种材料的一磁层。该磁层经受一图案化制程,在图案化制程中改变该磁层的该表面的选定部分,以使得该经改变的部分具有与非改变部分不同的磁性性质而不改变该基板的构形。在该经图案化的磁层上方沉积一保护层及一润滑层。该图案化经由将基板暴露于具有变动形式的能量的若干制程来实现。本文揭示的装置及方法使得能够同时处理一基板的两个主表面或藉由翻转相继处理一基板的两个主表面。在一些实施例中,该基板表面的磁性性质可藉由等离子体暴露来均匀地改变,且随后藉由暴露于经图案化的能量来选择性地复原磁性性质。
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