公开(公告)号：CN102869670A

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：CN201180009885.6

申请日：2011-02-16

Applicant: 得克萨斯大学体系董事会

Inventor： C·G·威尔森 ,  T·欧嘉瓦 ,  B·M·雅各布森

IPC: C07F7/00

CPC classification number: C07F7/0881 ,  C07D301/00 ,  C07D303/12 ,  C07F7/0838 ,  C07F7/0874 ,  C07F7/0878 ,  C07F7/0879 ,  C07F7/0889 ,  C07F7/0896 ,  C09D163/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/31055

Abstract: 本发明描述了支化和官能化的硅氧烷和制备这样的化合物的方法。所述化合物具有多种用途。一个优选的应用是作为用于光刻法的新型平坦化材料，在该情形中官能化支化硅氧烷，例如环氧改性的支化硅氧烷特别有用。

公开(公告)号：CN102869670B

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：CN201180009885.6

申请日：2011-02-16

Applicant: 得克萨斯大学体系董事会

Inventor： C·G·威尔森 ,  T·欧嘉瓦 ,  B·M·雅各布森

IPC: C07F7/00

CPC classification number: C07F7/0881 ,  C07D301/00 ,  C07D303/12 ,  C07F7/0838 ,  C07F7/0874 ,  C07F7/0878 ,  C07F7/0879 ,  C07F7/0889 ,  C07F7/0896 ,  C09D163/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/31055

Abstract: 本发明描述了支化和官能化的硅氧烷和制备这样的化合物的方法。所述化合物具有多种用途。一个优选的应用是作为用于光刻法的新型平坦化材料，在该情形中官能化支化硅氧烷，例如环氧改性的支化硅氧烷特别有用。