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公开(公告)号：CN119213170A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202380041244.1
申请日：2023-05-16
Applicant: 德国艾托特克有限两合公司
IPC: C23F1/18 , H01L21/3213 , H05K3/06 , H05K3/38 , C23F1/02
Abstract: 本发明提供用于纳米蚀刻铜或铜合金表面的方法，其特征在于以下方法步骤：i)提供具有至少一个铜或铜合金表面的衬底，ii)使至少一部分所述铜或铜合金表面与预浸渍组合物接触，iii)使至少一部分所述铜或铜合金表面与蚀刻溶液接触，所述方法的特征在于‑所述步骤是依序进行；‑步骤ii)是非蚀刻步骤；‑步骤iii)是蚀刻步骤；以及‑所述预浸渍组合物包含至少一种选自权利要求书中所定义的清单的含硫化合物。
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