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公开(公告)号：CN119861538A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202411459582.X
申请日：2024-10-18
Applicant: 日本化药株式会社
Inventor： 佐佐木智江 , 星野纯一 , 王博
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及结构物的制造方法及光阻剥离方法。本发明的目的为解决上述以往光阻用剥离液相关的技术课题，提供可实施在短时间内在无剥离残留且对作为目的的结构物的伤害较少的处理的光阻剥离方法、及使用该方法的结构物的制造方法。本发明的结构物的制造方法，依次使用2种以上的处理液剥离50μm以上的厚度的光阻。
