公开(公告)号：CN118830064A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202380024646.0

申请日：2023-03-08

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 菊池一雄 ,  星野纯一

IPC: H01L21/308 ,  C11D7/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/50 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明关于一种处理液，其含有：成分(A)，其为分子内具有氮原子的多元羧酸；及成分(B)，其为有机胺化合物；其中，前述成分(A)及前述成分(B)的含量(质量％)满足下述式(1)，1.0≤成分(B)的含量/成分(A)的含量≤5.5 (1)。

公开(公告)号：CN119861538A

公开(公告)日：2025-04-22

申请号：CN202411459582.X

申请日：2024-10-18

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 佐佐木智江 ,  星野纯一 ,  王博

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及结构物的制造方法及光阻剥离方法。本发明的目的为解决上述以往光阻用剥离液相关的技术课题，提供可实施在短时间内在无剥离残留且对作为目的的结构物的伤害较少的处理的光阻剥离方法、及使用该方法的结构物的制造方法。本发明的结构物的制造方法，依次使用2种以上的处理液剥离50μm以上的厚度的光阻。

公开(公告)号：CN116794944A

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202310252015.6

申请日：2023-03-16

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 稲垣真也 ,  佐口琢哉 ,  星野纯一

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及处理液及基板的洗涤方法。本发明的课题在于提出一种处理液，其光阻剥离性优异，且对多晶硅的伤害极小，而且保存稳定性优异，尤其是低温保存稳定性优异，因此实用性非常高。本发明对于上述课题的解决手段为一种处理液，其具有(A)具有内酯骨架的化合物、及(B)分子内具有2个以上羟基的胺化合物；优选为(A)为γ‑丁内酯且(B)为N‑烷基二乙醇胺；更优选为实质上仅由(A)、(B)所构成。

公开(公告)号：CN118672079A

公开(公告)日：2024-09-20

申请号：CN202410291089.5

申请日：2024-03-14

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 菊池一雄 ,  佐口琢哉 ,  星野纯一

IPC: G03F7/32

Abstract: 本发明涉及处理液及使用所述处理液的光阻剂图案的形成方法，本发明的课题的目的在于提供一种处理液，可形成具有锐利的图案边缘的光阻图案，也就是可在无显影不足(残渣)或图案剥离下形成良好图案边缘。另外，处理液的稳定性也为重要课题。如上述，本发明的目的为可兼具显影性等及稳定性。本发明的解决手段为一种处理液，含有(A)碱性化合物、(B)2种以上的非离子性界面活性剂、及(C)酸性化合物或其盐。

公开(公告)号：CN118672078A

公开(公告)日：2024-09-20

申请号：CN202410290902.7

申请日：2024-03-14

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 菊池一雄 ,  佐口琢哉 ,  星野纯一

IPC: G03F7/32

Abstract: 本发明涉及处理液及使用所述处理液的光阻剂图案的形成方法，本发明的课题的目的在于提供一种处理液，可形成具有锐利的图案边缘的光阻图案，也就是可在无显影不足(残渣)或图案剥离下形成良好图案边缘。另外，处理液的稳定性也为重要课题。如上述，本发明的目的为可兼具显影性等及稳定性。本发明的解决手段为一种处理液，含有(A)碱性化合物、及(B)2种以上的非离子性界面活性剂，(B)成分含有(B‑1)聚氧乙烯基苯乙烯化苯基醚、及(B‑2)聚氧乙烯基异丙苯基苯基醚。