公开(公告)号：CN1834231A

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：CN200610067832.0

申请日：2006-03-14

Applicant: 日立工程设备建设株式会社

Inventor： 井坂和一 ,  角野立夫 ,  常田聪

IPC: C12N1/20 ,  C12N15/31

CPC classification number: C12N1/20 ,  C02F3/006 ,  C02F3/10 ,  C02F3/307 ,  C02F2209/14 ,  C02F2305/06 ,  Y02W10/15

Abstract: 本发明提供一种厌氧性氨氧化细菌的培养装置(10)，其是以亚硝酸和氨为基质在培养槽(12)中培养进行厌氧脱氮的新型厌氧性氨氧化细菌，具备：以规定浓度向培养槽(12)中供给氨的供氨机构14，和以规定浓度向培养槽(12)中供给亚硝酸的供亚硝酸机构16，和对基质的供给速度Y进行控制的控制装置(22)。由此，本发明可以在以氨和亚硝酸为基质的厌氧性氨氧化细菌的培养中，在没有浪费的情况下提供基质并生成菌体浓度高的种污泥，或者在短期内进行运转的调试。