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公开(公告)号：CN101154054B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200710136083.7
申请日：2007-07-17
Applicant: 日立比亚机械股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70066 , G03F7/70075
Abstract: 本发明提供即使在使二维光空间调制器的光调制面的横Hx和纵Hy(其中，纵向为曝光基板的移动方向)之比Hx/Hy为例如1.5以上的情况下也可进行品质优良的曝光且可提高作业速度的照明装置及曝光装置。使将来自积分器(13)的出射光导向二维光空间调制器(21)的第二光学系统(15)的x方向的焦距(fx)与y方向的焦距(fy)为不同的值，例如，使fx/fy为1.6。这样，使棒透镜131的横纵比dx∶dy为接近1的1.6∶1，使积分器(13)的数量横纵相同，且可使Hx/Hy的值为2.5。此外，在实用上，可使二维光空间调制器的照射区域的横纵比Hx/Hy的值为3.5以上。
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公开(公告)号：CN100355022C
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN03805595.3
申请日：2003-07-02
Applicant: 日立比亚机械股份有限公司
IPC: H01L21/027 , G03F7/20 , G02B19/00 , G02B3/00
CPC classification number: G03F7/70075 , G02B3/005 , G02B3/0062 , G02B19/0014 , G02B19/0057 , G03F7/7005
Abstract: 一种曝光装置，特征在于包括照明光学系统和投影光学系统，该照明光学系统具有：把分开的多个光源以一维或二维排列的光源阵列；使从该光源阵列的各光源射出的光聚光的聚光光学系统；在空间上分解由该聚光光学系统聚光的光来生成多个疑似二次光源的、由棒状透镜的排列构成且各棒状透镜的垂直于光轴的剖面形状的纵横比r1与上述被照明区域的纵横比r0之比r1/r0为大于或等于0.8且小于或等于1.2的光学积分器；以及使来自利用该光学积分器生成的多个疑似二次光源的光叠加在一起来照明具有应该曝光的图形的被照明区域的聚光透镜：该投影光学系统把透射或反射了由该照明光学系统照明的应该曝光的图形的光投影、曝光到被曝光物上的被曝光区上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101398631A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200810144948.9
申请日：2008-08-13
Applicant: 日立比亚机械股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70275
Abstract: 本发明提供工件上有弯曲和厚度不均时、也能够在工件表面上曝光均匀宽度的图案的无掩模曝光装置。设置板厚方向一面相对于板厚方向另一面是角度为θ的倾斜面的第1和第2两个楔形玻璃(717、727)，和使楔形玻璃(717、727)中至少一个移动的移动装置，使楔形玻璃(717)的面(717u)与第2投影透镜(67)的光轴垂直设置、并且将组合成楔形玻璃(727)的面(727u)与(717u)面的距离为预定值δ的第1和第2两个楔形玻璃(717、727)设置在第2投影透镜(67)的入射侧或出射侧，第2投影透镜(67)的光轴方向的成像位置与曝光基板(8)表面错开时，通过以使间隔δ不变的方式将楔形玻璃(717)向角度θ方向移动，使第2投影透镜(67)的成像面定位在曝光基板(8)表面。
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公开(公告)号：CN1639845A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN03805595.3
申请日：2003-07-02
Applicant: 日立比亚机械股份有限公司
IPC: H01L21/027 , G03F7/20 , G02B19/00 , G02B3/00
CPC classification number: G03F7/70075 , G02B3/005 , G02B3/0062 , G02B19/0014 , G02B19/0057 , G03F7/7005
Abstract: 一种曝光装置，特征在于包括照明光学系统和投影光学系统，该明光学系统具有：把分开的多个光源以一维或二维排列的光源阵列；使从该光源阵列的各光源射出的光聚光的聚光光学系统；在空间上分解由该聚光光学系统聚光的光来生成多个疑似二次光源的、由棒状透镜的排列构成且各棒状透镜的垂直于光轴的剖面形状的纵横比r1与上述被照明区域的纵横比r0之比r1/r0为大于或等于0.8且小于或等于1.2的光学积分器；以及使来自利用该光学积分器生成的多个疑似二次光源的光叠加在一起来照明具有应该曝光的图形的被照明区域的聚光透镜；该投影光学系统把透射或反射了由该照明光学系统照明的应该曝光的图形的光投影、曝光到被曝光物上的被曝光区上。
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公开(公告)号：CN101075099A
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200710112121.5
申请日：2003-07-02
Applicant: 日立比亚机械股份有限公司
CPC classification number: G03F7/70075 , G02B3/005 , G02B3/0062 , G02B19/0014 , G02B19/0057 , G03F7/7005
Abstract: 一种曝光装置，特征在于包括照明光学系统和投影光学系统，该照明光学系统具有：把分开的多个光源以一维或二维排列的光源阵列；使从该光源阵列的各光源射出的光聚光的聚光光学系统；在空间上分解由该聚光光学系统聚光的光来生成多个疑似二次光源的、由棒状透镜的排列构成且各棒状透镜的垂直于光轴的剖面形状的纵横比r1与上述被照明区域的纵横比r0之比r1/r0为大于或等于0.8且小于或等于1.2的光学积分器；以及使来自利用该光学积分器生成的多个疑似二次光源的光叠加在一起来照明具有应该曝光的图形的被照明区域的聚光透镜；该投影光学系统把透射或反射了由该照明光学系统照明的应该曝光的图形的光投影、曝光到被曝光物上的被曝光区上。
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公开(公告)号：CN101398631B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200810144948.9
申请日：2008-08-13
Applicant: 日立比亚机械股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70275
Abstract: 本发明提供工件上有弯曲和厚度不均时、也能够在工件表面上曝光均匀宽度的图案的无掩模曝光装置。设置板厚方向一面相对于板厚方向另一面是角度为θ的倾斜面的第1和第2两个楔形玻璃(717、727)，和使楔形玻璃(717、727)中至少一个移动的移动装置，使楔形玻璃(717)的面(717u)与第2投影透镜(67)的光轴垂直设置、并且将组合成楔形玻璃(727)的面(727u)与(717u)面的距离为预定值δ的第1和第2两个楔形玻璃(717、727)设置在第2投影透镜(67)的入射侧或出射侧，第2投影透镜(67)的光轴方向的成像位置与曝光基板(8)表面错开时，通过以使间隔δ不变的方式将楔形玻璃(717)向角度θ方向移动，使第2投影透镜(67)的成像面定位在曝光基板(8)表面。
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公开(公告)号：CN101154054A
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200710136083.7
申请日：2007-07-17
Applicant: 日立比亚机械股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70066 , G03F7/70075
Abstract: 本发明提供即使在使二维光空间调制器的光调制面的横Hx和纵Hy(其中，纵向为曝光基板的移动方向)之比Hx/Hy为例如1.5以上的情况下也可进行品质优良的曝光且可提高作业速度的照明装置及曝光装置。使将来自积分器(13)的出射光导向二维光空间调制器(21)的第二光学系统(15)的x方向的焦距(fx)与y方向的焦距(fy)为不同的值，例如，使fx/fy为1.6。这样，使棒透镜131的横纵比dx∶dy为接近1的1.6∶1，使积分器(13)的数量横纵相同，且可使Hx/Hy的值为2.5。此外，在实用上，可使二维光空间调制器的照射区域的横纵比Hx/Hy的值为3.5以上。
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