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公开(公告)号:CN1755521A
公开(公告)日:2006-04-05
申请号:CN200510108494.6
申请日:2005-09-29
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 提供用于制版掩膜的喷墨记录用片材,它具有良好的曝光性质,并在减压下与光敏树脂版接触时显示出良好的透气性。一种用于制版掩膜的喷墨记录用片材,它包括基片和形成在其上的多孔层,它具有JIS-K7361-1所规定的至少70%的总光透射比,其中,所述多孔层含有100质量份的无机颗粒,1-30质量份的粘合剂,以及0.1-3质量份的平均粒度为4-15μm的多孔颗粒,所述无机颗粒选自于氧化铝、水合氧化铝、二氧化硅和二氧化硅-氧化铝复合物,其平均粒度为最大为250nm,并且所述多孔层的厚度为5-50μm,J.TAPPI No.5-2所规定的奥肯型平滑度为200-10000秒。