层叠体及其制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107531033A

    公开(公告)日:2018-01-02

    申请号:CN201680024226.2

    申请日:2016-04-15

    Inventor: 有贺广志

    Abstract: 本发明提供层叠体及其制造方法,所述层叠体是具有耐候性、耐污染性等作为含氟聚合物膜的特性的同时通过光反射层提高了日光反射率的层叠体,其日光反射率在长期内不易降低且光反射层不易剥离。层叠体1具备:含有第1含氟聚合物的基体10,由含有第2含氟聚合物和铝类颜料的非固化性树脂组合物构成的光反射层12,由含有具有交联性基团的第3含氟聚合物和使该第3含氟聚合物固化的固化剂的固化性树脂组合物固化而形成的保护层14,基体10和保护层14之间设置有光反射层12,光反射层12的厚度为0.5~5μm,保护层14的厚度为0.3~2μm。

    半导体树脂模塑用脱模膜
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101427358B

    公开(公告)日:2012-07-18

    申请号:CN200780014091.2

    申请日:2007-04-20

    Abstract: 本发明提供气体透过性显著较低,由模塑树脂导致的模具污染非常少,具有高脱模性的脱模膜。它是气体屏蔽性半导体树脂模塑用脱模膜,其特征在于,具有脱模性优良的脱模层(I)、支持该脱模层的塑料支持层(II)和由金属或金属氧化物构成的气体透过抑制层(III),该气体透过抑制层(III)形成于该脱模层和支持层之间,且该脱模膜在170℃下的二甲苯气体透过性为10-15(kmol·m/(s·m2·kPa))以下。脱模层(I)较好的是由乙烯/四氟乙烯系共聚物等氟树脂形成,此外作为金属氧化物层,较好的是氧化铝、氧化硅或氧化镁等的氧化物层。

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