公开(公告)号：CN101583577B

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN200880002385.8

申请日：2008-07-25

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 松本胜博 ,  万波和夫

IPC: C03C19/00 ,  G11B5/73 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/8404 ,  C03C19/00

Abstract: 本发明提供了一种制造磁盘用玻璃衬底的方法。在所述方法中，能够有效地除去裂纹。所述方法具有准备圆形玻璃衬底的准备步骤(1)，所述圆形玻璃衬底具有主表面、在所述主表面的相反侧的背面、构成限定从所述主表面贯穿至所述背面的通孔的内侧面、以及位于所述内侧面的相反侧的外侧面。所述方法还具有对所述玻璃衬底的所述内侧面和所述外侧面进行研磨的前研磨步骤(2A)；对所述经研磨的玻璃衬底进行抛光的抛光步骤(3)；以及对所述经抛光的玻璃衬底的所述内侧面和所述外侧面进行研磨的后研磨步骤(2B)。

公开(公告)号：CN102441828A

公开(公告)日：2012-05-09

申请号：CN201010502767.6

申请日：2010-09-30

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 松本胜博

IPC: B24B9/08

Abstract: 本发明提供玻璃板的端缘部研磨方法，进行生产性高且使加工面的表面粗糙度提升的倒角加工。在利用倒角轮(2)的玻璃基板(1)的端缘部研磨方法中，所述倒角轮(2)通过在纤维间配置磨粒、由聚氨酯树脂充填纤维间而构成，轮设为截面为凹状的大致圆盘状，给予了旋转运动的轮相对于玻璃基板的平面以规定的角度倾斜，用轮的端面与玻璃基板的端缘部抵接。

公开(公告)号：CN101583577A

公开(公告)日：2009-11-18

申请号：CN200880002385.8

申请日：2008-07-25

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 松本胜博 ,  万波和夫

IPC: C03C19/00 ,  G11B5/73 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/8404 ,  C03C19/00

Abstract: 本发明提供了一种制造磁盘用玻璃衬底的方法。在所述方法中，能够有效地除去裂纹。所述方法具有准备圆形玻璃衬底的准备步骤(1)，所述圆形玻璃衬底具有主表面、在所述主表面的相反侧的背面、构成限定从所述主表面贯穿至所述背面的通孔的内侧面、以及位于所述内侧面的相反侧的外侧面。所述方法还具有对所述玻璃衬底的所述内侧面和所述外侧面进行研磨的前研磨步骤(2A)；对所述经研磨的玻璃衬底进行抛光的抛光步骤(3)；以及对所述经抛光的玻璃衬底的所述内侧面和所述外侧面进行研磨的后研磨步骤(2B)。

公开(公告)号：CN101745852B

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN200910252335.1

申请日：2009-12-02

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 石田瑞穗 ,  志田德仁 ,  松本胜博 ,  万波和夫

IPC: B24B7/24 ,  G11B5/73

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B24B37/24 ,  B24D3/32

Abstract: 本发明涉及磁盘用玻璃衬底及其制造方法，所述方法包括：在供应含研磨材料的研磨浆体的同时，对圆形玻璃板的主面进行研磨的步骤，其中在对研磨面进行修整处理之后，使用研磨垫进行研磨，所述研磨垫具有：形成所述研磨面的第一树脂泡沫层，所述第一树脂泡沫层的厚度为400μm以下；和在用于固定所述研磨垫的台板和所述第一树脂泡沫层之间设置的第二树脂泡沫层，所述第二树脂泡沫层的厚度为50～250μm，以及其中所述第一树脂泡沫层和所述第二树脂泡沫层的总厚度为550μm以下，且通过JIS K6253规定的M法测定的所述研磨垫的国际橡胶硬度为40IRHD以上。

公开(公告)号：CN101745852A

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200910252335.1

申请日：2009-12-02

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 石田瑞穗 ,  志田德仁 ,  松本胜博 ,  万波和夫

IPC: B24B7/24 ,  G11B5/73

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B24B37/24 ,  B24D3/32

Abstract: 本发明涉及磁盘用玻璃衬底及其制造方法，所述方法包括：在供应含研磨材料的研磨浆体的同时，对圆形玻璃板的主面进行研磨的步骤，其中在对研磨面进行修整处理之后，使用研磨垫进行研磨，所述研磨垫具有：形成所述研磨面的第一树脂泡沫层，所述第一树脂泡沫层的厚度为400μm以下；和在用于固定所述研磨垫的台板和所述第一树脂泡沫层之间设置的第二树脂泡沫层，所述第二树脂泡沫层的厚度为50～250μm，以及其中所述第一树脂泡沫层和所述第二树脂泡沫层的总厚度为550μm以下，且通过JIS K6253规定的M法测定的所述研磨垫的国际橡胶硬度为40IRHD以上。