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公开(公告)号：CN1286937C
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：CN200310102880.5
申请日：2003-10-22
IPC: C09K3/10
Abstract: 提供制造封入激光二极管的光元件等用的密封材料组合物，它是能低温密封、粘合力强、不透气性高且有耐热性的含甲基苯基有机硅树脂和耐火填充剂的密封材料组合物。另外，还提供其成形体和由该组合物或成形体密封而成的密封构造体及封入激光二极管的光元件。上述甲基苯基有机硅树脂的相对于2官能团硅单元和3官能团硅单元的总量的2官能团硅单元的摩尔比为0.03-0.40；将该组合物中的甲基苯基有机硅树脂部分聚合、交联成形而成密封用成形体。用该组合物或其成形体密封玻璃部件和金属部件或金属部件间，形成具有不透气的内部空间的密封构造体，以及具有由该组合物或其成形体密封的构造并封入激光二极管的光元件。
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公开(公告)号：CN101745852B
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN200910252335.1
申请日：2009-12-02
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/24 , B24D3/32
Abstract: 本发明涉及磁盘用玻璃衬底及其制造方法，所述方法包括：在供应含研磨材料的研磨浆体的同时，对圆形玻璃板的主面进行研磨的步骤，其中在对研磨面进行修整处理之后，使用研磨垫进行研磨，所述研磨垫具有：形成所述研磨面的第一树脂泡沫层，所述第一树脂泡沫层的厚度为400μm以下；和在用于固定所述研磨垫的台板和所述第一树脂泡沫层之间设置的第二树脂泡沫层，所述第二树脂泡沫层的厚度为50～250μm，以及其中所述第一树脂泡沫层和所述第二树脂泡沫层的总厚度为550μm以下，且通过JIS K6253规定的M法测定的所述研磨垫的国际橡胶硬度为40IRHD以上。
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公开(公告)号：CN101745852A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910252335.1
申请日：2009-12-02
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/24 , B24D3/32
Abstract: 本发明涉及磁盘用玻璃衬底及其制造方法，所述方法包括：在供应含研磨材料的研磨浆体的同时，对圆形玻璃板的主面进行研磨的步骤，其中在对研磨面进行修整处理之后，使用研磨垫进行研磨，所述研磨垫具有：形成所述研磨面的第一树脂泡沫层，所述第一树脂泡沫层的厚度为400μm以下；和在用于固定所述研磨垫的台板和所述第一树脂泡沫层之间设置的第二树脂泡沫层，所述第二树脂泡沫层的厚度为50～250μm，以及其中所述第一树脂泡沫层和所述第二树脂泡沫层的总厚度为550μm以下，且通过JIS K6253规定的M法测定的所述研磨垫的国际橡胶硬度为40IRHD以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101678528A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200980000070.4
申请日：2009-01-21
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/042 , B24B37/24 , B24D3/32 , C03C19/00
Abstract: 在磁盘用玻璃衬底的制造中，本发明提供一种制造磁盘用玻璃衬底的方法，所述方法包括：在供应含磨料的研磨液的同时，使用由泡沫树脂制成的研磨垫对圆形玻璃衬底的主表面进行研磨的步骤，其中使用国际橡胶硬度为45 IRHD以下的由泡沫树脂制成的研磨垫作为起始研磨垫，所述硬度通过JIS K6253中规定的M法在研磨垫与浆体接触之前的干燥状态下测得，以及在对所述起始研磨垫的研磨表面进行修整处理以调节所述垫，使得开孔面积比为8％以上且开孔的平均圆等效直径为10μm以上之后开始所述研磨，由此抑制下垂在对圆形玻璃板主表面进行研磨的步骤中的增大。
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公开(公告)号：CN1497034A
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN200310102880.5
申请日：2003-10-22
IPC: C09K3/10
Abstract: 提供制造封入激光二极管的光元件等用的密封材料组合物，它是能低温密封、粘合力强、不透气性高且有耐热性的含甲基苯基有机硅树脂和耐火填充剂的密封材料组合物。另外，还提供其成形体和由该组合物或成形体密封而成的密封构造体及封入激光二极管的光元件。上述甲基苯基有机硅树脂的相对于2官能团硅单元和3官能团硅单元的总量的2官能团硅单元的摩尔比为0.03－0.40；将该组合物中的甲基苯基有机硅树脂部分聚合、交联成形而成密封用成形体。用该组合物或其成形体密封玻璃部件和金属部件或金属部件间，形成具有不透气的内部空间的密封构造体，以及具有由该组合物或其成形体密封的构造并封入激光二极管的光元件。
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公开(公告)号：CN101678528B
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN200980000070.4
申请日：2009-01-21
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/042 , B24B37/24 , B24D3/32 , C03C19/00
Abstract: 在磁盘用玻璃衬底的制造中，本发明提供一种制造磁盘用玻璃衬底的方法，所述方法包括：在供应含磨料的研磨液的同时，使用由泡沫树脂制成的研磨垫对圆形玻璃衬底的主表面进行研磨的步骤，其中使用国际橡胶硬度为45IRHD以下的由泡沫树脂制成的研磨垫作为起始研磨垫，所述硬度通过JIS K6253中规定的M法在研磨垫与浆体接触之前的干燥状态下测得，以及在对所述起始研磨垫的研磨表面进行修整处理以调节所述垫，使得开孔面积比为8％以上且开孔的平均圆等效直径为10μm以上之后开始所述研磨，由此抑制下垂在对圆形玻璃板主表面进行研磨的步骤中的增大。
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公开(公告)号：CN101588895B
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：CN200880001536.8
申请日：2008-08-18
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/044 , C03C15/02 , C09K3/1463
Abstract: 在制造磁盘用玻璃基板时，圆形玻璃板的主表面的研磨工序中，在不降低研磨速率的情况下，减少塌边。包括使用酸性的研磨液对圆形玻璃板的主表面进行研磨的工序，所述研磨液包含主链上结合有选自羧基、羧基的盐、磺酸基和磺酸基的盐的至少1种的水溶性聚合物以及胶态二氧化硅或气相二氧化硅，或者所述研磨液中，相对于100质量份胶态二氧化硅或气相二氧化硅，包含0.02～0.1质量份具有磺酸基的表面活性剂。
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公开(公告)号：CN101588895A
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：CN200880001536.8
申请日：2008-08-18
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/044 , C03C15/02 , C09K3/1463
Abstract: 在制造磁盘用玻璃基板时，圆形玻璃板的主表面的研磨工序中，在不降低研磨速率的情况下，减少塌边。包括使用酸性的研磨液对圆形玻璃板的主表面进行研磨的工序，所述研磨液包含主链上结合有选自羧基、羧基的盐、磺酸基和磺酸基的盐的至少1种的水溶性聚合物以及胶态二氧化硅或气相二氧化硅，或者所述研磨液中，相对于100质量份胶态二氧化硅或气相二氧化硅，包含0.02～0.1质量份具有磺酸基的表面活性剂。
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