一种铜离子掺杂硅酸钙微波介质陶瓷及其制备方法

    公开(公告)号:CN114349493B

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN202210154548.6

    申请日:2022-02-21

    Abstract: 本发明涉及电子陶瓷材料技术领域,提供了一种铜离子掺杂硅酸钙微波介质陶瓷及其制备方法。本发明在硅酸钙微波介质陶瓷中掺杂铜离子,通过控制合适的铜离子掺杂量,能够抑制煅烧粉中杂相的产生,获得纯相的α‑CaSiO3粉体(三斜晶系,空间群为C1),进而通过烧结得到单相的β‑CaSiO3陶瓷(单斜晶系,空间群为P21/a),所得铜离子掺杂硅酸钙微波介质陶瓷的致密度高、微波介电性能优异,具有较高的品质常数和较低的介电常数。另外,本发明通过掺杂铜离子,拓宽了陶瓷的烧结温度范围,传统的固相合成法烧结温度为1300℃以上,而本发明提供的制备方法烧结温度仅为1050℃以上,能够实现低温共烧,有利于实际生产。

    一种铜离子掺杂硅酸钙微波介质陶瓷及其制备方法

    公开(公告)号:CN114349493A

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202210154548.6

    申请日:2022-02-21

    Abstract: 本发明涉及电子陶瓷材料技术领域,提供了一种铜离子掺杂硅酸钙微波介质陶瓷及其制备方法。本发明在硅酸钙微波介质陶瓷中掺杂铜离子,通过控制合适的铜离子掺杂量,能够抑制煅烧粉中杂相的产生,获得纯相的α‑CaSiO3粉体(三斜晶系,空间群为C1),进而通过烧结得到单相的β‑CaSiO3陶瓷(单斜晶系,空间群为P21/a),所得铜离子掺杂硅酸钙微波介质陶瓷的致密度高、微波介电性能优异,具有较高的品质常数和较低的介电常数。另外,本发明通过掺杂铜离子,拓宽了陶瓷的烧结温度范围,传统的固相合成法烧结温度为1300℃以上,而本发明提供的制备方法烧结温度仅为1050℃以上,能够实现低温共烧,有利于实际生产。

    一种钙硼硅系LTCC陶瓷材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN115466109B

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202211271913.8

    申请日:2022-10-18

    Abstract: 本发明属于陶瓷材料技术领域,提供了一种钙硼硅系LTCC陶瓷材料。本发明通过设计低硼的CBS陶瓷,减少了氧化硼的熔融挥发和硼酸钙的析出,降低了介电损耗;通过引入稀土氧化物Nb2O5和/或Ta2O5能够加强玻璃网络结构,增大玻璃粘度,降低陶瓷材料的介电损耗,同时稀土氧化物Nb2O5和/或Ta2O5的引入还能够抑制析出高温相α‑CaSiO3,促进析出低温相β‑CaSiO3,从而可以在低烧结温度下制得具有低介电常数和低介电损耗的钙硼硅系LTCC陶瓷材料。实施例的结果显示,本发明提供的钙硼硅系LTCC陶瓷材料的介电常数εr为6.18,介电损耗tanδ为1.19×10‑3(1MHz)。

    一种钙硼硅系LTCC陶瓷材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN115466109A

    公开(公告)日:2022-12-13

    申请号:CN202211271913.8

    申请日:2022-10-18

    Abstract: 本发明属于陶瓷材料技术领域,提供了一种钙硼硅系LTCC陶瓷材料。本发明通过设计低硼的CBS陶瓷,减少了氧化硼的熔融挥发和硼酸钙的析出,降低了介电损耗;通过引入稀土氧化物Nb2O5和/或Ta2O5能够加强玻璃网络结构,增大玻璃粘度,降低陶瓷材料的介电损耗,同时稀土氧化物Nb2O5和/或Ta2O5的引入还能够抑制析出高温相α‑CaSiO3,促进析出低温相β‑CaSiO3,从而可以在低烧结温度下制得具有低介电常数和低介电损耗的钙硼硅系LTCC陶瓷材料。实施例的结果显示,本发明提供的钙硼硅系LTCC陶瓷材料的介电常数εr为6.18,介电损耗tanδ为1.19×10‑3(1MHz)。

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