公开(公告)号：CN109778144B

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN201811323045.7

申请日：2018-11-08

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 石桥直人 ,  深田启介 ,  梅田喜一 ,  儿玉友弘

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/02

Abstract: 一种化学气相沉积装置，具备在内部进行气相生长的反应炉和从所述反应炉排出气体的排气配管，所述排气配管具有至少1个弯曲部，在所述弯曲部具备从所述弯曲部向不同的方向延伸出且在内部具有堆积物的存积空间的至少1个配管延长部。

公开(公告)号：CN109778144A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201811323045.7

申请日：2018-11-08

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 石桥直人 ,  深田启介 ,  梅田喜一 ,  儿玉友弘

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/02

Abstract: 一种化学气相沉积装置，具备在内部进行气相生长的反应炉和从所述反应炉排出气体的排气配管，所述排气配管具有至少1个弯曲部，在所述弯曲部具备从所述弯曲部向不同的方向延伸出且在内部具有堆积物的存积空间的至少1个配管延长部。