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公开(公告)号：CN1744939A
公开(公告)日：2006-03-08
申请号：CN200480003192.6
申请日：2004-01-20
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 冈正和
CPC classification number: B01D53/685 , B01D53/70 , B01D53/8662 , B01D2253/104 , B01D2257/2027 , B01D2257/2066 , B01D2257/2068 , Y02C20/30
Abstract: 将分子内含有碘的氟化合物通过包含氧化铝和碱土金属化合物的分解反应试剂分解，将产生的氯、氟和/或硫作为碱土金属的氯化物、氟化物和/或硫酸盐固定在反应试剂中，并且将不能作为碱土金属的盐固定的碘通过吸附剂除去。
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公开(公告)号：CN1382524A
公开(公告)日：2002-12-04
申请号：CN02105311.1
申请日：2002-02-22
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: Y02A50/2341
Abstract: 本发明提供了一种即便是在含有热分解性氟烃或酸性成分的气体的处理中使用,劣化也少的氧化催化剂和使用氧化催化剂的氧化方法。本发明的氧化催化剂的特征在于由氟化率为30～95%的氧化铝载体上附载有贵金属,特别是铂。
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公开(公告)号：CN101014541A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200580030394.4
申请日：2005-09-08
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C01B7/20 , C01G45/06 , C01P2006/80
Abstract: 公开了制造氟化锰的方法，包括：步骤(1)，使已经在不低于100℃的温度干燥的锰化合物(例如MnF2)与氟化剂(例如F2)在50至250℃的温度反应，和步骤(2)，进一步使步骤(1)中获得的产物与氟化剂在250至450℃的温度反应。根据该方法，可以在不经过升华和凝固步骤的情况下，在低温和低压条件下容易并廉价地大规模制造能够生成氟气的氟化锰。
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公开(公告)号：CN100478276C
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN02813984.4
申请日：2002-07-11
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C01B33/107 , B01D53/22 , H01L31/20 , H01L21/205 , C03B37/00 , G01N30/14
CPC classification number: B01J20/20 , B01D53/04 , B01D53/22 , B01D53/228 , B01D2253/102 , B01D2253/308 , B01D2257/102 , B01D2257/104 , B01D2257/204 , B01D2257/2047 , B01D2257/502 , B01D2257/504 , B01D2257/55 , B01D2258/0216 , B01D2259/401 , B01J20/28019 , B01J20/28078 , B01J20/2808 , B01J20/3416 , B01J20/3458 , C01B33/10705 , C03B37/01453 , C03B2201/12 , G01N21/09 , G01N21/3504 , G01N30/88 , G01N2021/3595 , G01N2030/8872 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P20/152 , Y02P70/521
Abstract: 通过包括如下步骤的方法制备了四氟硅烷：加热六氟硅酸盐的步骤(1)、将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与氟气反应的步骤(2-1)、将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与高价金属氟化物反应的步骤(2-2)或将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与氟气反应的步骤(2-1)和将步骤(2-1)中产生的四氟硅烷气体与高价金属氟化物反应的步骤(2-3)。此外，还分析了高纯度四氟硅烷中的杂质。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN1527796A
公开(公告)日：2004-09-08
申请号：CN02813984.4
申请日：2002-07-11
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C01B33/107 , B01D53/22 , H01L31/20 , H01L21/205 , C03B37/00 , G01N30/14
CPC classification number: B01J20/20 , B01D53/04 , B01D53/22 , B01D53/228 , B01D2253/102 , B01D2253/308 , B01D2257/102 , B01D2257/104 , B01D2257/204 , B01D2257/2047 , B01D2257/502 , B01D2257/504 , B01D2257/55 , B01D2258/0216 , B01D2259/401 , B01J20/28019 , B01J20/28078 , B01J20/2808 , B01J20/3416 , B01J20/3458 , C01B33/10705 , C03B37/01453 , C03B2201/12 , G01N21/09 , G01N21/3504 , G01N30/88 , G01N2021/3595 , G01N2030/8872 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P20/152 , Y02P70/521
Abstract: 通过包括如下步骤的方法制备了四氟硅烷：加热六氟硅酸盐的步骤(1)、将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与氟气反应的步骤(2－1)、将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与高价金属氟化物反应的步骤(2－2)或将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与氟气反应的步骤(2－1)和将步骤(2－1)中产生的四氟硅烷气体与高价金属氟化物反应的步骤(2－3)。此外，还分析了高纯度四氟硅烷中的杂质。
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公开(公告)号：CN100577575C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200580030394.4
申请日：2005-09-08
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C01B7/20 , C01G45/06 , C01P2006/80
Abstract: 公开了制造氟化锰的方法，包括：步骤(1)，使已经在不低于100℃的温度干燥的锰化合物(例如MnF2)与氟化剂(例如F2)在50至250℃的温度反应，和步骤(2)，进一步使步骤(1)中获得的产物与氟化剂在250至450℃的温度反应。根据该方法，可以在不经过升华和凝固步骤的情况下，在低温和低压条件下容易并廉价地大规模制造能够生成氟气的氟化锰。
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公开(公告)号：CN100342952C
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200480003192.6
申请日：2004-01-20
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 冈正和
CPC classification number: B01D53/685 , B01D53/70 , B01D53/8662 , B01D2253/104 , B01D2257/2027 , B01D2257/2066 , B01D2257/2068 , Y02C20/30
Abstract: 将分子内含有碘的氟化合物通过包含氧化铝和碱土金属化合物的分解反应试剂分解，将产生的氯、氟和/或硫作为碱土金属的氯化物、氟化物和/或硫酸盐固定在反应试剂中，并且将不能作为碱土金属的盐固定的碘通过吸附剂除去。
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公开(公告)号：CN1856442A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200480027437.9
申请日：2004-09-24
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 冈正和
IPC: C01B33/107 , B01D53/22 , H01L31/20 , H01L21/205 , C03B37/00 , G01N30/14
CPC classification number: C03B37/01446 , B01D53/02 , C01B33/107 , C01B33/10705 , C01B33/10784 , C03B37/01453 , C03B2201/12 , C03C25/607
Abstract: 本发明涉及一种通过用硫酸分解六氟硅酸生产四氟硅烷的方法，其包括：于第一反应器中在浓硫酸中分解六氟硅酸以生成SiF4和HF、并且将由此形成的SiF4取出的步骤1；将部分步骤1的包含HF的浓硫酸溶液转移至第二反应器以使HF与加入第二反应器SiO2反应、从而生产包含(SiF3)2O的SiF4的步骤2；和将步骤2包含(SiF3)2O和SiF4的产物加入第一反应器以使该反应产物中的(SiF3)2O与HF反应将其转化为SiF4、并且将所获得的SiF4与在步骤1形成的SiF4一起取出的步骤3。根据本发明，能够获得高纯SiF4，其中(SiF3)2O减少，且不含传统方法中作为难以解决的副产物产生的HF。
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