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公开(公告)号：CN104109107A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201410149135.4
申请日：2014-04-15
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C269/02 , C07C271/06 , C07C271/12
Abstract: 本发明的目的在于提供由不饱和异氰酸酯化合物与具有活性氢原子的化合物反应而得到的稳定性优异的不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物、以及它们的制造方法。不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物是使下述(1)不饱和异氰酸酯化合物和(2)具有活性氢原子的化合物进行反应而得到的，所述(1)不饱和异氰酸酯化合物，在使用孔径0.5μm的PTFE滤膜、以压力30kPa对其进行吸滤时，每1cm2的滤过速度为0.01g/(sec·cm2)～0.08g/(sec·cm2)。
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公开(公告)号：CN100475782C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200480021774.7
申请日：2004-07-27
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C263/18 , C07C265/04
CPC classification number: C07C263/18 , C07C265/04
Abstract: 本发明提供了稳定的异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯、使其稳定的方法和其制备方法。更特别地，其提供了一种具有低的可水解氯含量和优良的储存稳定性的异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯；一种使通过采用光气制备的异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯稳定的方法，该方法包括采用精制来降低可水解氯的量；以及一种制备稳定的异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯的方法。将酸性气体例如二氧化碳等强制溶解于异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯中、特别是采用精制来降低可水解氯的含量的异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯，并由此提高异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯的储存稳定性。
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公开(公告)号：CN104610097B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201410521197.3
申请日：2014-09-30
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C269/02 , C07C271/22 , C07C271/60 , C07C273/18 , C07D231/12 , C07C231/10 , C07C333/04 , C08G65/48
Abstract: 一种不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和硫代氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物，其是使不饱和异氰酸酯化合物和具有活性氢的化合物进行反应而得到的不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和硫代氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物，其特征在于，前述不饱和异氰酸酯化合物满足以下A)，A)在10mL己烷中加入4mL不饱和异氰酸酯化合物进行混合，经过5分钟之后所测定的波长400nm的吸光度(400nm Abs)为0.01～2.5。
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公开(公告)号：CN101076523B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200580004525.1
申请日：2005-02-09
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07D305/06
CPC classification number: C07D305/06
Abstract: 本发明涉及式(1)所示的含(甲基)丙烯酰基的氧杂环丁烷化合物，其与含(甲基)丙烯酰基的化合物具有高度共聚性，还涉及含(甲基)丙烯酰基的氧杂环丁烷化合物的制造方法，其特征在于使式(5)所示的含(甲基)丙烯酰基的异氰酸酯化合物与式(6)所示的含羟基的氧杂环丁烷化合物反应，在式中，R1代表氢原子或甲基，A代表-OR2-或键，R2代表在主链中可以含有氧原子的二价烃基，R3代表含有1至6个碳原子的直链或支链亚烷基，且R4代表含有1至6个碳原子的直链或支链烷基。
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公开(公告)号：CN1934075B
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200580009554.7
申请日：2005-03-22
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C263/20 , C07C265/04
CPC classification number: C07C263/20 , C07C263/16 , C07C265/04
Abstract: 本发明的目的是提供一种可在工业有利和温和的条件下通过将具有异氰酸酯基的3-氯丙酸酯衍生物脱去氯化氢而以高收率获得具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯衍生物的方法，而且残余可水解氯的含量被降低。本发明的制备具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯衍生物的方法包括在具有叔氮原子的碱性氮化合物存在下对具有异氰酸酯基的3-氯丙酸酯衍生物进行脱去氯化氢处理，其中碱性氮化合物的叔氮具有至少一个不同于芳环基的基团。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100387573C
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200480021528.1
申请日：2004-07-27
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C263/20 , C07C265/02
CPC classification number: C07C263/18 , C07C263/20 , C07C265/04
Abstract: 提供了一种制备可水解氯含量非常低的高纯(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯的方法。如下制备高纯(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯：在110至160℃的温度下，对含可水解氯的(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯进行与环氧化合物和胺混合的处理以制备混合物；并通过蒸馏由所得混合物制备高纯(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯。特别地，可以通过添加例如吩噻嗪之类的聚合抑制剂在蒸馏过程中有效地防止(甲基)丙烯酰氧烷基异氰酸酯聚合。
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公开(公告)号：CN104109107B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201410149135.4
申请日：2014-04-15
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C269/02 , C07C271/06 , C07C271/12
Abstract: 本发明的目的在于提供由不饱和异氰酸酯化合物与具有活性氢原子的化合物反应而得到的稳定性优异的不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物、以及它们的制造方法。不饱和氨基甲酸酯化合物、不饱和脲化合物、或不饱和酰胺化合物是使下述(1)不饱和异氰酸酯化合物和(2)具有活性氢原子的化合物进行反应而得到的，所述(1)不饱和异氰酸酯化合物，在使用孔径0.5μm的PTFE滤膜、以压力30kPa对其进行吸滤时，每1cm2的滤过速度为0.01g/(sec·cm2)～0.08g/(sec·cm2)。
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公开(公告)号：CN101848915B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN200880114939.3
申请日：2008-11-05
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07F7/21 , C08G59/20 , H01L21/027
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y10/00 , C07F7/0838 , C07F7/21 , C08G59/306 , C08G59/3281 , C08G59/42 , G03F7/0002 , G03F7/0757
Abstract: 本发明的目的在于一种转印材料用固化性组合物，其适合用于可以以高生产量形成微细图案的工艺即紫外纳米压印法；并且有时适合用于热纳米压印法；而且可以形成氟类气体和氧气气体的蚀刻速度选择性高的微细图案。本发明的转印材料用固化性组合物，其特征在于，含有具有Si-H基的硅化合物(A)与具有固化性官能团和除该固化性官能团以外的其它碳碳双键的化合物(B)加成进行硅氢化反应所得化合物的固化性硅化合物。
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公开(公告)号：CN102596867A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080045917.3
申请日：2010-10-26
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/38 , C01B31/00 , C07C17/383 , C07C19/08
CPC classification number: C07C17/383 , C01B7/20 , C07C17/386 , C07C19/08
Abstract: 本发明的课题是提供可以从包含氯化氢的含氟化合物(粗含氟化合物)中有效地分离除去氯化氢来获得高纯度的含氟化合物的含氟化合物的纯化方法。作为解决课题的方法是，本发明的含氟化合物的纯化方法的特征在于，依次包含下述工序(1)和工序(2)：工序(1)，在包含含氟化合物和氯化氢的粗含氟化合物中按照二甲醚与氯化氢的摩尔比(二甲醚(摩尔)/氯化氢(摩尔))为1.3以上的方式添加二甲醚，调制粗含氟化合物-二甲醚混合物(1)；工序(2)，从上述混合物(1)中分离除去氯化氢-二甲醚混合物(2)。
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公开(公告)号：CN101848915A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200880114939.3
申请日：2008-11-05
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07F7/21 , C08G59/20 , H01L21/027
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y10/00 , C07F7/0838 , C07F7/21 , C08G59/306 , C08G59/3281 , C08G59/42 , G03F7/0002 , G03F7/0757
Abstract: 本发明的目的在于一种转印材料用固化性组合物，其适合用于可以以高生产量形成微细图案的工艺即紫外纳米压印法；并且有时适合用于热纳米压印法；而且可以形成氟类气体和氧气气体的蚀刻速度选择性高的微细图案。本发明的转印材料用固化性组合物，其特征在于，含有具有Si-H基的硅化合物(A)与具有固化性官能团和除该固化性官能团以外的其它碳碳双键的化合物(B)加成进行硅氢化反应所得化合物的固化性硅化合物。
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