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公开(公告)号：CN113939497A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202080038234.9
申请日：2020-12-23
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C231/24 , C07C233/05 , C07C233/03 , C07C233/65 , C07D207/267 , C08F26/02
Abstract: 提供能够有效率地将N‑乙烯基羧酸酰胺精制，制造高聚合性的N‑乙烯基羧酸酰胺单体的方法。本发明的高聚合性N‑乙烯基羧酸酰胺单体的制造方法，其特征在于，包含下述工序：工序(A)：使包含N‑乙烯基羧酸酰胺单体50～88质量％的粗N‑乙烯基羧酸酰胺单体通过升温而熔解，然后通过冷却而析出(冷却晶析)，将析出了的N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶进行固液分离的工序；以及工序(B)：使在工序(A)中被分离出的N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶进一步溶解于乙腈与碳原子数6～7的脂肪族烃的混合溶剂后，进行晶析(溶剂晶析)，进行固液分离，回收N‑乙烯基羧酸酰胺单体精制物的工序，工序(B)中的乙腈/N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶的质量比为0.01以上且0.5以下，工序(B)中的碳原子数6～7的脂肪族烃/N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶的质量比为0.5以上且3.0以下。
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公开(公告)号：CN108698981A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780011463.X
申请日：2017-01-16
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 田中直行
IPC: C07C231/24 , C07C231/12 , C07C233/05
CPC classification number: C07C231/12 , C07C231/24 , C07C233/05
Abstract: 本发明提供着眼于作为通过反应生成的杂质而被包含的不饱和醛类的N‑乙烯基羧酸酰胺的制造方法。一种N‑乙烯基羧酸酰胺的制造方法，其特征在于，在N‑乙烯基羧酸酰胺的制造法中，具有下述工序：将N‑乙烯基羧酸酰胺中的不饱和醛类的含量控制到20质量ppm以下的工序。
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公开(公告)号：CN113166041A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980078289.X
申请日：2019-11-05
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C231/12 , C07C231/24 , C07C233/05
Abstract: 本发明提供可以抑制热分解反应器的由凝结体引起的堵塞问题，长期稳定地连续运转的N‑乙烯基羧酸酰胺的制造方法。一种N‑乙烯基羧酸酰胺的制造方法，其包含：供给工序S1，将N‑(1‑烷氧基乙基)羧酸酰胺作为原料而供给到蒸发器；蒸发工序S2，在蒸发器中使原料蒸发而制成气化原料；以及热分解工序S4，将气化原料供给到热分解反应器，进行热分解，在蒸发工序S2与热分解工序S4之间进一步包含下述回收工序S3：将供给到蒸发器的原料之中的未气化的液体原料和气化原料的一部分液化而成的液体原料回收，回收工序S3为通过在蒸发器与热分解反应器之间具备的原料回收装置而回收液体原料的工序。
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公开(公告)号：CN114761378A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202080084012.0
申请日：2020-12-03
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C233/05 , C07C231/12 , C07C231/24 , G01N30/26 , G01N30/46 , G01N30/86 , G01N30/88
Abstract: 本发明的课题是提供稳定地具有高聚合性的、用于制造N‑乙烯基乙酰胺类聚合物的组合物。该组合物是含有N‑乙烯基乙酰胺的组合物，其特征在于，在特定条件下的高效液相色谱测定中，将N‑乙烯基乙酰胺的峰面积视为1时，保留时间为31.5分钟～32.5分钟、35.5分钟～36.5分钟、及39.5分钟～40.5分钟的峰面积的合计为1.1×10‑4以下。
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公开(公告)号：CN113939496A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202080038138.4
申请日：2020-12-23
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C231/24 , C07C233/05
Abstract: 提供能够有效率地将N‑乙烯基羧酸酰胺精制，制造高聚合性的N‑乙烯基羧酸酰胺单体的方法。本发明的高聚合性N‑乙烯基羧酸酰胺单体的制造方法，其特征在于，包含下述工序：工序(A)：使包含N‑乙烯基羧酸酰胺单体50～88质量％的粗N‑乙烯基羧酸酰胺单体通过升温而熔解，然后通过冷却而析出(冷却晶析)，将析出了的N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶进行固液分离的工序；以及工序(B)：使在工序(A)中被分离出的N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶进一步溶解于甲苯与碳原子数6～7的脂肪族烃的混合溶剂后，进行晶析(溶剂晶析)，进行固液分离，回收N‑乙烯基羧酸酰胺单体精制物的工序，工序(B)中的甲苯/N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶的质量比为0.01以上且0.5以下，工序(B)中的碳原子数6～7的脂肪族烃/N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶的质量比为0.5以上且3.0以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113874349A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202080038203.3
申请日：2020-12-23
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C233/03 , C07C231/24
Abstract: 提供能够有效率地将N‑乙烯基羧酸酰胺精制，制造高聚合性的N‑乙烯基羧酸酰胺单体的方法。本发明的高聚合性N‑乙烯基羧酸酰胺单体的制造方法，其特征在于，包含下述工序：工序(A)：使包含N‑乙烯基羧酸酰胺单体50～88质量％的粗N‑乙烯基羧酸酰胺单体通过升温而熔解，然后通过冷却而析出(冷却晶析)，将析出了的N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶进行固液分离的工序；以及工序(B)：使在工序(A)中被分离出的N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶进一步溶解于1,2‑二甲氧基乙烷与碳原子数6～7的脂肪族烃的混合溶剂后，进行晶析(溶剂晶析)，进行固液分离，回收N‑乙烯基羧酸酰胺单体精制物的工序，工序(B)中的1,2‑二甲氧基乙烷/N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶的质量比为0.01以上且0.5以下，工序(B)中的碳原子数6～7的脂肪族烃/N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶的质量比为0.5以上且3.0以下。
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公开(公告)号：CN113164827A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980078292.1
申请日：2019-11-05
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: B01D1/22 , B01J4/00 , C07C231/12 , C07C233/05 , F28D3/02
Abstract: 本发明提供通过以稳定的原料分散性向流下液膜式蒸发器的多个蒸发管供给原料，从而可以抑制热分解反应器的由凝结体引起的堵塞问题，长期稳定地连续运转的原料供给器以及N‑乙烯基羧酸酰胺的制造方法。一种用于将液体化合物作为原料而分散地供给到流下液膜式蒸发器的多个蒸发管8的原料供给器，其具备：具备与多个蒸发管8对置的多个连通孔50的主体部51；被收纳在连通孔50的内部的、具有节流孔7a的节流件7；位于连通孔50的内部，与节流件7相面对地被收纳在节流件7的上游侧，并具有与节流孔7a对置的孔部6a的给液嘴6；被外嵌在给液嘴6的侧面，并被给液嘴6的侧面与连通孔50的内面夹持着的第一O型圈10；以及以节流孔7a存在于其内侧区域的方式，被给液嘴6与节流件7夹持着的第二O型圈11。
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公开(公告)号：CN109196069A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201780033734.1
申请日：2017-06-05
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C09J133/04 , C09J175/04
Abstract: 一种粘着剂组合物，其包含丙烯酸系树脂(A)和异氰酸酯系交联剂(B)，上述异氰酸酯系交联剂(B)相对于上述丙烯酸系树脂(A)100质量份的含量为0.05～5质量份，丙烯酸系树脂(A)包含20质量％以上的具有羟基的单体(a1)、和0.5～5质量％的N-乙烯基乙酰胺(a2)作为单体单元。
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公开(公告)号：CN113874347A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202080038148.8
申请日：2020-12-23
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C231/24 , C07C233/05
Abstract: 提供能够有效率地将N‑乙烯基羧酸酰胺精制，制造高聚合性的N‑乙烯基羧酸酰胺单体的方法。本发明的高聚合性N‑乙烯基羧酸酰胺单体的制造方法，其特征在于，包含下述工序：工序(A)：使包含N‑乙烯基羧酸酰胺单体50～88质量％的粗N‑乙烯基羧酸酰胺单体通过升温而熔解，然后通过冷却而析出(冷却晶析)，将析出了的N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶进行固液分离的工序；以及工序(B)：使在工序(A)中被分离出的N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶进一步溶解于乙酸乙酯与碳原子数6～7的脂肪族烃的混合溶剂后，进行晶析(溶剂晶析)，进行固液分离，回收N‑乙烯基羧酸酰胺单体精制物的工序，工序(B)中的乙酸乙酯/N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶的质量比为0.01以上且0.5以下，工序(B)中的碳原子数6～7的脂肪族烃/N‑乙烯基羧酸酰胺单体结晶的质量比为0.5以上且3.0以下。
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公开(公告)号：CN108698981B
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN201780011463.X
申请日：2017-01-16
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 田中直行
IPC: C07C231/24 , C07C231/12 , C07C233/05
Abstract: 本发明提供着眼于作为通过反应生成的杂质而被包含的不饱和醛类的N‑乙烯基羧酸酰胺的制造方法。一种N‑乙烯基羧酸酰胺的制造方法，其特征在于，在N‑乙烯基羧酸酰胺的制造法中，具有下述工序：将N‑乙烯基羧酸酰胺中的不饱和醛类的含量控制到20质量ppm以下的工序。
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