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公开(公告)号:CN105229317B
公开(公告)日:2018-06-08
申请号:CN201480021180.X
申请日:2014-03-03
Applicant: 本田技研工业株式会社
CPC classification number: F16C11/0604 , C23C14/0605 , C23C14/34 , C23C16/26 , C23C16/50 , F16C11/0685 , F16C2206/04 , F16C2223/42 , F16C2240/64
Abstract: 本发明提供能够以短时间、不导致成本上升且容易地形成具有期望的表面粗糙度和膜硬度的DLC膜,廉价且大量提供具备稳定的滑动特性的球节的技术。一种球节的制造方法,是具备具有球面部的球头螺栓、和活动自由地保持球面部的保持部的球节的制造方法,其具备:基底中间层形成工序,使用溅射法在球面部的表面形成具有微小的表面凹凸结构的基底中间层;和非晶质硬质碳膜形成工序,使用PIG等离子体成膜法在基底中间层之上形成表面的均方根粗糙度为6.5~35nm的非晶质硬质碳膜。
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公开(公告)号:CN105229317A
公开(公告)日:2016-01-06
申请号:CN201480021180.X
申请日:2014-03-03
Applicant: 本田技研工业株式会社
CPC classification number: F16C11/0604 , C23C14/0605 , C23C14/34 , C23C16/26 , C23C16/50 , F16C11/0685 , F16C2206/04 , F16C2223/42 , F16C2240/64
Abstract: 本发明提供能够以短时间、不导致成本上升且容易地形成具有期望的表面粗糙度和膜硬度的DLC膜,廉价且大量提供具备稳定的滑动特性的球节的技术。一种球节的制造方法,是具备具有球面部的球头螺栓、和活动自由地保持球面部的保持部的球节的制造方法,其具备:基底中间层形成工序,使用溅射法在球面部的表面形成具有微小的表面凹凸结构的基底中间层;和非晶质硬质碳膜形成工序,使用PIG等离子体成膜法在基底中间层之上形成表面的均方根粗糙度为6.5~35nm的非晶质硬质碳膜。
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