公开(公告)号：CN100513145C

公开(公告)日：2009-07-15

申请号：CN200480002378.X

申请日：2004-01-16

Applicant: 李承燮

Inventor： 李承燮 ,  文祥俊

IPC: B29D31/00

CPC classification number: B81C99/0085 ,  A61B5/14514 ,  A61M37/0015 ,  A61M2037/0053 ,  B81B2201/055 ,  B81C2201/032 ,  G03F7/00 ,  G03F7/0035

Abstract: 本发明涉及以X射线工艺制造微针阵列的方法。本发明提供了微针阵列的制造方法，包含的步骤为：通过在基片上生成具有微针阵列构造的吸收器，制备X射线掩膜；采用X射线掩膜，通过将PMMA曝光于垂直和倾斜的X射线，制备用于微针阵列的PMMA铸型；通过将PDMS浇注于PMMA铸型上，制备具有与PMMA相反构造的柔性PDMS模具；以凝胶型聚合物填充PDMS模具的上表面，得到期望厚度的聚合物；通过在聚合物上辐照紫外线，将具有期望构造的孔穴图案代；以及分离PDMS模具，完成聚合物微针阵列。本发明的微针阵列由聚合物材料制成，可用于从皮肤抽取血液或将药物注射入皮肤。

公开(公告)号：CN1738710A

公开(公告)日：2006-02-22

申请号：CN200480002378.X

申请日：2004-01-16

Applicant: 李承燮

Inventor： 李承燮 ,  文祥俊

IPC: B29D31/00

CPC classification number: B81C99/0085 ,  A61B5/14514 ,  A61M37/0015 ,  A61M2037/0053 ,  B81B2201/055 ,  B81C2201/032 ,  G03F7/00 ,  G03F7/0035

Abstract: 本发明涉及以X射线工艺制造微针阵列的方法。本发明提供了微针阵列的制造方法，包含的步骤为：通过在基片上生成具有微针阵列构造的吸收器，制备X射线掩膜；采用X射线掩膜，通过将PMMA曝光于垂直和倾斜的X射线，制备用于微针阵列的PMMA铸型；通过将PDMS浇注于PMMA铸型上，制备具有与PMMA相反构造的柔性PDMS模具；以凝胶型聚合物填充PDMS模具的上表面，得到期望厚度的聚合物；通过在聚合物上辐照紫外线，将具有期望构造的孔穴图案代；以及分离PDMS模具，完成聚合物微针阵列。本发明的微针阵列由聚合物材料制成，可用于从皮肤抽取血液或将药物注射入皮肤。