半导体设备
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101361192B

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200780001781.4

    申请日:2007-12-14

    CPC classification number: H01L51/0003 H01L51/0545

    Abstract: 本发明提供一种半导体设备,具有:配置在基板表面的源极电极和漏极电极;隔开所述源极电极和所述漏极电极的沟道间隙;配置在所述源极电极、所述漏极电极、以及所述沟道间隙上的有机半导体层;配置在所述有机半导体层上的绝缘膜;配置在所述绝缘膜上的栅极电极;以及规定所述有机半导体层的隔堤,该半导体设备包括有机半导体元件(A)和有机半导体元件(B),所述有机半导体元件(A)中,所述隔堤的自所述基板表面的高度高于所述沟道间隙的自基板表面的高度,并且在所述隔堤上形成有沟槽,所述有机半导体元件(B)具有源极电极或漏极电极,所述源极电极或漏极电极通过形成在所述有机半导体元件(A)的隔堤上的沟槽与所述有机半导体元件(A)的栅极电极连接。

    激光切片装置及激光切片方法

    公开(公告)号:CN110064840A

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201910047037.2

    申请日:2019-01-18

    Abstract: 本发明提供一种激光切片装置及激光切片方法,该激光切片装置及激光切片方法能够不使裂纹或裂缝产生而分离加工对象物。该激光切片装置利用激光将加工对象物分离,该激光切片装置具备:遮光区域检测部,其检测存在于所述加工对象物的第一表面侧的遮光区域;以及控制部,其以对所述加工对象物的所述第一表面的整个面进行扫描的方式从所述第一表面侧照射第一激光,从而在所述加工对象物的内部的预定切片面上形成第一改质层,并且从所述第一表面的背面侧的第二表面,对所述加工对象物的所述遮光区域照射第二激光,从而在所述预定切片面上与所述第一改质层连续地形成第二改质层。

    半导体设备
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101361192A

    公开(公告)日:2009-02-04

    申请号:CN200780001781.4

    申请日:2007-12-14

    CPC classification number: H01L51/0003 H01L51/0545

    Abstract: 本发明提供一种半导体设备,具有:配置在基板表面的源极电极和漏极电极;隔开所述源极电极和所述漏极电极的沟道间隙;配置在所述源极电极、所述漏极电极、以及所述沟道间隙上的有机半导体层;配置在所述有机半导体层上的绝缘膜;配置在所述绝缘膜上的栅极电极;以及规定所述有机半导体层的隔堤,该半导体设备包括有机半导体元件(A)和有机半导体元件(B),所述有机半导体元件(A)中,所述隔堤的自所述基板表面的高度高于所述沟道间隙的自基板表面的高度,并且在所述隔堤上形成有沟槽,所述有机半导体元件(B)具有源极电极或漏极电极,所述源极电极或漏极电极通过形成在所述有机半导体元件(A)的隔堤上的沟槽与所述有机半导体元件(A)的栅极电极连接。

    激光切片装置及激光切片方法

    公开(公告)号:CN110064840B

    公开(公告)日:2022-04-19

    申请号:CN201910047037.2

    申请日:2019-01-18

    Abstract: 本发明提供一种激光切片装置及激光切片方法,该激光切片装置及激光切片方法能够不使裂纹或裂缝产生而分离加工对象物。该激光切片装置利用激光将加工对象物分离,该激光切片装置具备:遮光区域检测部,其检测存在于所述加工对象物的第一表面侧的遮光区域;以及控制部,其以对所述加工对象物的所述第一表面的整个面进行扫描的方式从所述第一表面侧照射第一激光,从而在所述加工对象物的内部的预定切片面上形成第一改质层,并且从所述第一表面的背面侧的第二表面,对所述加工对象物的所述遮光区域照射第二激光,从而在所述预定切片面上与所述第一改质层连续地形成第二改质层。

    激光切割装置及激光切割方法

    公开(公告)号:CN104174995A

    公开(公告)日:2014-12-03

    申请号:CN201410160584.9

    申请日:2014-04-21

    CPC classification number: B23K26/14 B23K26/38 B23K2101/18

    Abstract: 本发明提供一种在对层叠体进行激光切割时能够无损切断面品质地进行切割的激光切割装置。该激光切割装置在透镜(4)与层叠体(10)之间配置有腔室(5),该腔室(5)中设有:用于将激光(2)射入到腔室(5)内的透射窗(6);用于将辅助气体(8)导入到腔室(5)内的气体送入口(7);以及用于将激光(2)从腔室(5)射出并使辅助气体(8)从腔室(5)喷出的切口(9)。切口(9)具有效仿激光(2)进行扫描的区域而得到的形状,层叠体(10)在激光(2)的照射位置上的厚度因辅助气体(8)的喷出而减小。

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