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公开(公告)号:CN1167969A
公开(公告)日:1997-12-17
申请号:CN97110572.3
申请日:1997-04-23
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: G11B5/23
CPC classification number: G11B5/105 , G11B5/1276 , G11B5/1878 , G11B5/40 , G11B5/53 , G11B33/14
Abstract: 本发明提供一种形成有具有高饱和磁通密度的金属磁膜,即使将其设置在强腐蚀性的环境下,也具有高可靠性的磁头装置和磁记录装置。作为金属磁膜2,使用FeAlSi膜,并用喷溅法形成,其厚度可为大约5μm。然后用Al作为支持基台5。支持基台5可以用冲压成型法形成,其厚度可为大约0.75mm。而且磁头可用紫外线硬化型粘接剂粘接固定在支持基台上。
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公开(公告)号:CN100470634C
公开(公告)日:2009-03-18
申请号:CN03819952.1
申请日:2003-08-21
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G11B5/1878 , G11B5/0086 , G11B5/02 , G11B5/1276 , G11B5/53
Abstract: 一种磁头,配置有交替层叠金属磁性膜(8)和非磁性膜(9)而构成的多层膜,在与磁性记录介质接触的面上,所述多层膜和形成了所述多层膜的磁性氧化物基板或非磁性基板之间构成的边界与间隙部(3)平行,构成所述多层膜的金属磁性膜(8)的膜厚为两种以上,或者构成所述多层膜的金属磁性膜(8)的膜厚一定,并且此时厚度t满足条件:t<v×cosθ/fmax(其中,v表示磁头和记录介质之间的相对速度,fmax表示使用频带的上限,θ表示方位角)。从而,本发明可以提供一种能够抑制伪信号的、降低噪音的磁头和具有该磁头的磁记录再现装置。
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公开(公告)号:CN1183516C
公开(公告)日:2005-01-05
申请号:CN00814080.4
申请日:2000-10-10
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G11B5/537 , G11B5/0086 , G11B5/105 , G11B5/133 , G11B5/147 , G11B5/1475 , G11B5/255 , G11B5/53 , G11B15/61 , G11B15/62
Abstract: 提供一种磁头磨损小、静止持久时间长的磁头和备有使用该磁头的高速旋转磁鼓装置的磁记录再现装置。因此,在磁头中,将由一对衬底(1)和(3)、(5)和(7)夹持软磁金属材料构成的至少一个磁性膜(2、6)构成的磁芯半体(4、8)配置为由该磁芯半体的各个磁性膜应构成磁路的磁芯半体的端面之间相互对向来形成磁隙(9),衬底的与磁带的滑动面的至少一部分由非磁性单晶铁氧体材料构成,该非磁性单晶铁氧体材料在上述滑动面的结晶面方位大致为{110},并且 方向与磁头相对磁带的滑动方向大致平行。
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公开(公告)号:CN1679086A
公开(公告)日:2005-10-05
申请号:CN03819952.1
申请日:2003-08-21
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G11B5/1878 , G11B5/0086 , G11B5/02 , G11B5/1276 , G11B5/53
Abstract: 一种磁头,配置有交替层叠金属磁性膜(8)和非磁性膜(9)而构成的多层膜,在与磁性记录介质接触的面上,所述多层膜和形成了所述多层膜的磁性氧化物基板或非磁性基板之间构成的边界与间隙部(3)平行,构成所述多层膜的金属磁性膜(8)的膜厚为两种以上,或者构成所述多层膜的金属磁性膜(8)的膜厚一定,并且此时厚度t满足条件:t<v×cosθ/fmax(其中,v表示磁头和记录介质之间的相对速度,fmax表示使用频带的上限,θ表示方位角)。从而,本发明可以提供一种能够抑制伪信号的、降低噪音的磁头和具有该磁头的磁记录再现装置。
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公开(公告)号:CN1129891C
公开(公告)日:2003-12-03
申请号:CN97110572.3
申请日:1997-04-23
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: G11B5/23
CPC classification number: G11B5/105 , G11B5/1276 , G11B5/1878 , G11B5/40 , G11B5/53 , G11B33/14
Abstract: 本发明提供一种形成有具有高饱和磁通密度的金属磁膜,即使将其设置在强腐蚀性的环境下,也具有高可靠性的磁头装置和磁记录装置。作为金属磁膜2,使用FeAlSi膜,并用喷溅法形成,其厚度可为大约5μm。然后用Al作为支持基台5。支持基台5可以用冲压成型法形成,其厚度可为大约0.75mm。而且磁头可用紫外线硬化型粘接剂粘接固定在支持基台上。
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公开(公告)号:CN1378684A
公开(公告)日:2002-11-06
申请号:CN00814080.4
申请日:2000-10-10
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G11B5/537 , G11B5/0086 , G11B5/105 , G11B5/133 , G11B5/147 , G11B5/1475 , G11B5/255 , G11B5/53 , G11B15/61 , G11B15/62
Abstract: 提供一种磁头磨损小、静止持久时间长的磁头和备有使用该磁头的高速旋转磁鼓装置的磁记录再现装置。因此,在磁头中,将由一对衬底1和3、5和7夹持软磁金属材料构成的至少一个磁性膜2,6构成的磁芯半体4,8配置为由该磁芯半体的各个磁性膜应构成磁路的磁芯半体的端面之间相互对向来形成磁隙9,衬底的与磁带的滑动面的至少一部分由非磁性单晶铁氧体材料构成,该非磁性单晶铁氧体材料在上述滑动面的结晶面方位大致为{110},并且 ;方向与磁头相对磁带的滑动方向大致平行。
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