公开(公告)号：CN103649364A

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：CN201280033540.9

申请日：2012-07-06

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 宫川展幸 ,  西森泰辅 ,  安食高志 ,  北村一树

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/24

Abstract: 目的在于，在真空蒸镀装置中，在使用了多个蒸发源时，不易发生在被蒸镀体上形成的蒸镀膜的不均，能够形成所希望的膜厚的蒸镀膜。真空蒸镀装置（1）具备：多个蒸发源（3）；将蒸发源（3）及被蒸镀体（2）之间的空间包围、在被蒸镀体侧具有开口面（41）的筒状体（4）。并且，具备在筒状体（4）的内部配置的分隔板（7）。分隔板（7）具有开口部（70），开口部（70）在以重心（P）为中心的直径（D）的圆周范围内设有至少1个以上，直径（D）是分隔板（7）的外周上的2点间距离中的最大值的2/3。根据该构成，能够使从分隔板（7）的开口部（70）流向被蒸镀体（2）侧的气化材料的流束分布相同，因此在使用了多个蒸发源（3）时，不易发生在被蒸镀体（2）上形成的蒸镀膜的不均，能够获得所希望的膜厚的蒸镀膜。

公开(公告)号：CN103518001A

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：CN201280013425.5

申请日：2012-03-12

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 宫川展幸 ,  西森泰辅 ,  安食高志

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C16/52 ,  C23C14/24 ,  C23C14/243

Abstract: 提供了一种可在沉积材料的沉积期间抑制除要测量膜厚度的沉积材料之外的沉积材料附着于膜厚度计且可提高沉积膜厚度的测量精度的真空沉积装置。在真空室（1）中布置有被沉积体（4）和多个蒸发源（2），所述真空室包括包围被沉积体（4）和多个蒸发源（2）之间的空间的筒状体（3）、以及膜厚度计（10）。所述装置被构造成使得从多个蒸发源（2）蒸发的沉积材料（9）穿过筒状体（3）内部，到达被沉积体（4）的表面，并且沉积在该表面上。在膜厚度计（10）与所述多个蒸发源（2）中的至少一个蒸发源（2）之间布置有导管（7），所述导管用于将从所述蒸发源（2）蒸发的沉积材料（9）引导至膜厚度计（10）。导管（7）在蒸发源（2）一侧上的开口表面布置在与所述蒸发源（2）的开口表面大致相同的表面上或者所述蒸发源（2）的内部。