蒸镀装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104136653A

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201380010547.3

    申请日:2013-02-28

    CPC classification number: C23C14/0629 C23C14/5866 H01L51/001

    Abstract: 本发明的蒸镀装置用于通过蒸镀在所输送的被蒸镀体上形成薄膜。该蒸镀装置具有配置在构成热壁的筒状体的内部的分离板。通过该分离板,所述筒状体的内部被分离为在与被蒸镀体的输送方向垂直的方向上并列的第一分离空间和第二分离空间。在所述第一分离空间中设有构成为保持放射到该第一分离空间中的蒸镀材料的蒸镀源和构成为检测来自该蒸镀源的蒸镀材料的放射的传感器。所述第二分离空间的情况也同样。

    真空蒸镀装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104066865A

    公开(公告)日:2014-09-24

    申请号:CN201380006704.3

    申请日:2013-01-25

    CPC classification number: C23C14/24 C23C14/243 C23C14/542

    Abstract: 真空蒸镀装置(1)具备:第1、第2蒸发源(3、4),使蒸镀材料(30、40)蒸发;蒸镀速度控制部(81),分别控制第1、第2蒸发源的动作;设定蒸镀速度存储部(82a、82b),分别存储预先设定的第1、第2蒸发源的设定蒸镀速度(A1、A2);第1、第2膜厚计(7a、7b),计量各蒸镀材料的混合蒸镀速度(Y1、Y2)。计量部(85)根据第2膜厚计(7b)相对于第1膜厚计(7a)的一个蒸镀材料的到达量比(B1)、第1膜厚计(7a)相对于第2膜厚计(7b)的另一蒸镀材料的到达量比(B2)和混合蒸镀速度(Y1、Y2),分别计算第1及第2蒸发源的蒸镀速度(X1、X2),蒸镀速度控制部(81)控制第1、第2蒸发源(3、4),以使计算值和设定值一致。

    连续式蒸镀装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103732787A

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201280039982.4

    申请日:2012-09-06

    CPC classification number: C23C14/56 C23C14/12 C23C14/24 C23C14/541 H01L51/001

    Abstract: 蒸镀装置(1)具备:蒸发源(3),使蒸镀于被蒸镀体(2)的蒸镀材料(32)蒸发;筒状体(4),包围蒸发源(3)以及被蒸镀体(2)之间的空间,在被蒸镀体(2)侧具有开口部(41);以及修正板(5),设置于筒状体(4)的开口部(41)附近,对从筒状体(4)放射的蒸镀材料(32)的量进行控制。此外,在比修正板(5)更靠被蒸镀体(2)侧设置有扩散板(6)。通过该结构,通过扩散板(6),来自成为热源的蒸发源(3)以及筒状体(4)的辐射热不易传到被蒸镀体(2),所以即使使被蒸镀体(2)接近蒸发源(3)以及筒状体(4),也能够抑制被蒸镀体(2)的温度上升。

    真空蒸镀装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103649364A

    公开(公告)日:2014-03-19

    申请号:CN201280033540.9

    申请日:2012-07-06

    CPC classification number: C23C14/24

    Abstract: 目的在于,在真空蒸镀装置中,在使用了多个蒸发源时,不易发生在被蒸镀体上形成的蒸镀膜的不均,能够形成所希望的膜厚的蒸镀膜。真空蒸镀装置(1)具备:多个蒸发源(3);将蒸发源(3)及被蒸镀体(2)之间的空间包围、在被蒸镀体侧具有开口面(41)的筒状体(4)。并且,具备在筒状体(4)的内部配置的分隔板(7)。分隔板(7)具有开口部(70),开口部(70)在以重心(P)为中心的直径(D)的圆周范围内设有至少1个以上,直径(D)是分隔板(7)的外周上的2点间距离中的最大值的2/3。根据该构成,能够使从分隔板(7)的开口部(70)流向被蒸镀体(2)侧的气化材料的流束分布相同,因此在使用了多个蒸发源(3)时,不易发生在被蒸镀体(2)上形成的蒸镀膜的不均,能够获得所希望的膜厚的蒸镀膜。

    真空沉积装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103518001A

    公开(公告)日:2014-01-15

    申请号:CN201280013425.5

    申请日:2012-03-12

    CPC classification number: C23C16/52 C23C14/24 C23C14/243

    Abstract: 提供了一种可在沉积材料的沉积期间抑制除要测量膜厚度的沉积材料之外的沉积材料附着于膜厚度计且可提高沉积膜厚度的测量精度的真空沉积装置。在真空室(1)中布置有被沉积体(4)和多个蒸发源(2),所述真空室包括包围被沉积体(4)和多个蒸发源(2)之间的空间的筒状体(3)、以及膜厚度计(10)。所述装置被构造成使得从多个蒸发源(2)蒸发的沉积材料(9)穿过筒状体(3)内部,到达被沉积体(4)的表面,并且沉积在该表面上。在膜厚度计(10)与所述多个蒸发源(2)中的至少一个蒸发源(2)之间布置有导管(7),所述导管用于将从所述蒸发源(2)蒸发的沉积材料(9)引导至膜厚度计(10)。导管(7)在蒸发源(2)一侧上的开口表面布置在与所述蒸发源(2)的开口表面大致相同的表面上或者所述蒸发源(2)的内部。

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