公开(公告)号：CN100524585C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200480000226.6

申请日：2004-02-16

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 高濑道彦 ,  篠崎淳 ,  古川弘之

IPC: H01J9/02

CPC classification number: H01J9/48 ,  H01J9/02 ,  H01J9/46 ,  H01J2217/49

Abstract: 本发明是在对于等离子体显示屏的基板的成膜中，能够抑制对膜质产生不良影响的成膜装置内部的灰尘发生的等离子体显示屏的制造方法及其基板保持件。通过具有由从下方支撑的支撑单元和限制基板(3)的面方向位置的限制单元构成的保持单元的框体所组成的第1基板保持件(3)以及保持第1基板保持件(31)的第2基板保持件(32)，在保持基板(3)和虚拟基板(35)的同时进行成膜。

公开(公告)号：CN101469403B

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN200810190507.2

申请日：2004-02-16

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 高濑道彦 ,  篠崎淳 ,  古川弘之

IPC: C23C14/24 ,  H01J9/02 ,  H01J9/46

CPC classification number: H01J9/48 ,  H01J9/02 ,  H01J9/46 ,  H01J2217/49

Abstract: 本发明是在对于等离子体显示屏的基板的成膜中，能够抑制对膜质产生不良影响的成膜装置内部的灰尘发生的等离子体显示屏的制造方法及其基板保持件。通过具有由从下方支撑的支撑单元和限制基板(3)的面方向位置的限制单元构成的保持单元的框体所组成的第1基板保持件(3)以及保持第1基板保持件(31)的第2基板保持件(32)，在保持基板(3)和虚拟基板(35)的同时进行成膜。

公开(公告)号：CN101471216B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200810190508.7

申请日：2004-02-16

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 高濑道彦 ,  篠崎淳 ,  古川弘之

IPC: H01J9/20 ,  H01J9/48

CPC classification number: H01J9/48 ,  H01J9/02 ,  H01J9/46 ,  H01J2217/49

Abstract: 本发明是在对于等离子体显示屏的基板的成膜中，能够抑制对膜质产生不良影响的成膜装置内部的灰尘发生的等离子体显示屏的制造方法及其基板保持件。通过具有由从下方支撑的支撑单元和限制基板(3)的面方向位置的限制单元构成的保持单元的框体所组成的第1基板保持件(3)以及保持第1基板保持件(31)的第2基板保持件(32)，在保持基板(3)和虚拟基板(35)的同时进行成膜。

公开(公告)号：CN101471216A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200810190508.7

申请日：2004-02-16

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 高濑道彦 ,  篠崎淳 ,  古川弘之

IPC: H01J9/20 ,  H01J9/48

CPC classification number: H01J9/48 ,  H01J9/02 ,  H01J9/46 ,  H01J2217/49

Abstract: 本发明是在对于等离子体显示屏的基板的成膜中，能够抑制对膜质产生不良影响的成膜装置内部的灰尘发生的等离子体显示屏的制造方法及其基板保持件。通过具有由从下方支撑的支撑单元和限制基板(3)的面方向位置的限制单元构成的保持单元的框体所组成的第1基板保持件(3)以及保持第1基板保持件(31)的第2基板保持件(32)，在保持基板(3)和虚拟基板(35)的同时进行成膜。

公开(公告)号：CN101469403A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200810190507.2

申请日：2004-02-16

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 高濑道彦 ,  篠崎淳 ,  古川弘之

IPC: C23C14/24 ,  H01J9/02 ,  H01J9/46

CPC classification number: H01J9/48 ,  H01J9/02 ,  H01J9/46 ,  H01J2217/49

Abstract: 本发明是在对于等离子体显示屏的基板的成膜中，能够抑制对膜质产生不良影响的成膜装置内部的灰尘发生的等离子体显示屏的制造方法及其基板保持件。通过具有由从下方支撑的支撑单元和限制基板(3)的面方向位置的限制单元构成的保持单元的框体所组成的第1基板保持件(3)以及保持第1基板保持件(31)的第2基板保持件(32)，在保持基板(3)和虚拟基板(35)的同时进行成膜。

公开(公告)号：CN1698154A

公开(公告)日：2005-11-16

申请号：CN200480000226.6

申请日：2004-02-16

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 高濑道彦 ,  篠崎淳 ,  古川弘之

IPC: H01J9/02

CPC classification number: H01J9/48 ,  H01J9/02 ,  H01J9/46 ,  H01J2217/49

Abstract: 本发明是在对于等离子体显示屏的基板的成膜中，能够抑制对膜质产生不良影响的成膜装置内部的灰尘发生的等离子体显示屏的制造方法及其基板保持件。通过具有由从下方支撑的支撑单元和限制基板(3)的面方向位置的限制单元构成的保持单元的框体所组成的第1基板保持件(3)以及保持第1基板保持件(31)的第2基板保持件(32)，在保持基板(3)和虚拟基板(35)的同时进行成膜。