半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1877838A

    公开(公告)日:2006-12-13

    申请号:CN200610093567.3

    申请日:2006-06-06

    CPC classification number: H01L29/7783 H01L21/7605 H01L27/0605 H01L29/8605

    Abstract: 本发明的目的在于提供半导体器件,包括用InGaP层作为在表面露出的半导体层的半导体电阻元件,能够提高元件隔离耐压。本发明的半导体器件具有:FET(21),其包括沟道层(3)、以及形成在沟道层(3)上且由非掺杂的InGaP构成的肖特基层(7);以及半导体电阻元件(22),其包括利用元件隔离区(12)来与FET(21)隔离的肖特基层(7)和沟道层(3)的一部分,FET(21)和半导体电阻元件(22)形成在同一衬底上,在元件隔离(12)内肖特基层(7)被去除。

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