电场放射型电子源
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1825519A

    公开(公告)日:2006-08-30

    申请号:CN200610004886.2

    申请日:2001-10-26

    Abstract: 一种电场放射型电子源(10),在由玻璃衬底构成的绝缘性衬底(11)的上侧设置有:由导电性层构成的下部电极(8);含有由氧化或氮化的多孔性半导体构成的漂移部(6a)的强电场漂移层(6);由金薄膜构成的表面电极(7)。而且,外加电压使表面电极(7)相对于下部电极(8)成为正极,并使从下部电极(8)注入强电场漂移层(6)的电子在强电场漂移层(6)中漂移,通过表面电极(7)放射到外部。在下部电极(8)和强电场漂移层(6)之间设置有由n层(21)和p层(22)构成的pn结半导体层,据此,就能防止漏泄电流从下部电极(8)流向表面电极(7),从而降低耗电量。

    制造电场放射型电子源的方法和装置

    公开(公告)号:CN1395272A

    公开(公告)日:2003-02-05

    申请号:CN02124448.0

    申请日:2002-06-26

    CPC classification number: B82Y10/00 H01J9/025

    Abstract: 一种电场放射型电子源10,具有n型硅基板1、在n型硅基板1的1个表面上形成的漂移层6(强电场漂移层)、在漂移层6上形成的表面电极7。通过外加电压,使表面电极7相对于n型硅基板1为正极,从而由n型硅基板1注入漂移层6中的电子在该漂移层6中漂移,通过表面电极7被释放出。在该电场放射型电子源10的制造过程中,形成漂移层6时,通过阳极氧化形成含有半导体微晶体的多孔质半导体层。然后,在各半导体微晶体表面形成绝缘膜。对半导体层照射主要含有可见光区域波长的光,同时进行阳极氧化。

    用从冷阴极电子发射器产生的电子处理和改善目标对象的方法和装置

    公开(公告)号:CN1849673B

    公开(公告)日:2010-07-14

    申请号:CN200480026387.2

    申请日:2004-11-25

    Abstract: 本发明提供一种使用电子处理和改善目标对象的装置和方法,通过该装置和方法,即使在具有相对宽的表面区域需要处理的时候,也能够在与大气压力基本相等的压力下使用电子均匀且有效地处理和改善目标对象。该方法使用具有根据隧道效应从平面电子发射部分中发射出电子的能力的冷阴极电子发射器,并且优选包括一对电极以及一个包含布置于所述电极之间的纳米晶硅的强场漂移层。通过在所述电极之间施加电压来使目标对象暴露于从该平面电子发射部分中所发射的电子中。优选的是,所发射出的电子的能量从1eV到50keV、优选1eV到100eV的范围中选择。

    电场放射型电子源
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100545984C

    公开(公告)日:2009-09-30

    申请号:CN200610004887.7

    申请日:2001-10-26

    Abstract: 一种电场放射型电子源(10),在由玻璃衬底构成的绝缘性衬底(11)的上侧设置有:由导电性层构成的下部电极(8);含有由氧化或氮化的多孔性半导体构成的漂移部(6a)的强电场漂移层(6);由金薄膜构成的表面电极(7)。而且,外加电压使表面电极(7)相对于下部电极(8)成为正极,并使从下部电极(8)注入强电场漂移层(6)的电子在强电场漂移层(6)中漂移,通过表面电极(7)放射到外部。在下部电极(8)和强电场漂移层(6)之间设置有由n层(21)和p层(22)构成的pn结半导体层,据此,就能防止漏泄电流从下部电极(8)流向表面电极(7),从而降低耗电量。

    量子装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100376040C

    公开(公告)日:2008-03-19

    申请号:CN03800686.3

    申请日:2003-03-07

    CPC classification number: B82Y20/00 B82Y10/00 C09K11/59 H01J1/312 H01J9/022

    Abstract: 所公开的是一种电子源(10),该电子源包括形成于绝缘基片(1)一侧表面上的电子源元件(10a)。电子源元件(10a)包括下电极(2),复合纳米晶体层(6)和表面电极(7)。复合纳米晶体层(6)包括多个多晶硅晶粒51,在每个晶粒(51)表面上形成的氧化硅薄膜(52),存在于相邻晶粒(51)之间的大量纳米晶体硅(63),以及在每个纳米晶体硅(63)表面形成的氧化硅膜(64)。氧化硅膜(64)是厚度小于纳米晶体硅(63)晶粒大小的绝缘膜。表面电极(7)是由碳薄膜(7a)和金属薄膜(7b)形成,碳薄膜(7a)层压在复合纳米晶体层(6)上与其相接触,而金属薄膜(7b)层压在碳薄膜(7a)上。

    电场发射型电子源及其制造方法

    公开(公告)号:CN1217371C

    公开(公告)日:2005-08-31

    申请号:CN00128588.2

    申请日:2000-10-18

    CPC classification number: B82Y10/00 H01J1/312

    Abstract: 在由玻璃基板组成的绝缘性基板11的一个表面上形成导电性层8。在导电性层8上形成由氧化的多孔质多晶硅层组成的强电场漂移层6。在强电场漂移层6上形成表面电极7。导电性层8由形成在绝缘性基板11上的由铜组成的下侧的导电性膜8a和形成在该导电性膜8a上的由铝组成的上侧的导电性膜8b所构成。强电场漂移层6这样形成:在导电性层8上形成多晶硅层,把该多晶硅层进行多孔质化,然后,进行氧化。上侧的导电性膜8b具有易于与硅发生反应的性质,因此,在多晶硅层形成时能够抑制非晶层的形成。

    场发射型电子源及其制造方法

    公开(公告)号:CN1732551B

    公开(公告)日:2012-03-28

    申请号:CN200380107724.6

    申请日:2003-12-26

    CPC classification number: H01J1/3042 H01J31/123

    Abstract: 场发射型电子源具有在由玻璃衬底构成的绝缘衬底(11)的一个表面(前表面)侧上形成的多个电子源元件(10a)。各电子源元件(10a)包括下部电极(12)、由形成在下部电极(12)上的非晶硅层构成的缓冲层(14)、在该缓冲层(14)上形成的多晶硅层(3)、在该多晶硅层(3)上形成的强电场漂移层(6)、以及在该强电场漂移层(6)上形成的表面电极(7)。该场发射型电子源可以降低电子发射性能的面内变化。

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