公开(公告)号：CN111702656B

公开(公告)日：2021-08-17

申请号：CN202010636856.3

申请日：2020-07-04

Applicant: 林燕

Inventor： 刘永

IPC: B24B37/12 ,  B24B37/20 ,  B24B37/10 ,  B24B37/32

Abstract: 本发明公开了一种间距可控的化学机械研磨头，研磨支撑座的底部升降设置有圆环状的研磨保持环；研磨保持环与压头同轴设置并且压头位于研磨保持环内；研磨保持环的内径大于圆晶的直径；限位底环与研磨保持环同轴设置；限位底环位于研磨保持环的下侧并且两者之间的间隙可调设置；限位底环的内径大于研磨垫的直径；研磨平台的上端面上成型有同轴设置的供限位底环插入的限位环槽；限位环槽内设置有用于限制限位底环的限位装置；限位底环相对于研磨平台旋转设置。本发明工作时，研磨保持环和研磨垫之间的间隙保持在一定的间距，这样限位底环不会被研磨垫磨损同时有利于研磨液和研磨产物排出，提高研磨质量。

公开(公告)号：CN111890218B

公开(公告)日：2021-09-03

申请号：CN202010636922.7

申请日：2020-07-04

Applicant: 林燕

Inventor： 刘永

IPC: B24B37/00 ,  B24B37/34 ,  B24B41/02 ,  B24B41/04 ,  B24B47/12 ,  B24B55/04 ,  B24B57/02

Abstract: 本发明公开了一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，上支撑架的上端面低于研磨平台的上端面；上支撑架的底面上成型有同轴设置的圆环状的挡水环；上支撑架的内圆柱面上成型有内螺纹；旋转支撑座的外圆柱面上成型有与上支撑架的内螺纹配合的外螺纹；旋转支撑座的内圆柱面下端成型有同轴设置的圆环状的下支撑环；下支撑环上固定有防溅罩；防溅罩由上部的缩口部和下部的上窄下宽的漏斗状的下阻挡部组成；下阻挡部的上端开口的内径与缩口部的内径相同；缩口部的内径大于研磨平台的直径。