公开(公告)号：CN101432113B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN200780014868.5

申请日：2007-04-23

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 佐藤彰 ,  大森滋人 ,  小山博和 ,  宫泽一宏 ,  岩垣贤 ,  佐藤浩一 ,  田坂公志 ,  冈繁树 ,  久保伸夫 ,  村上隆

IPC: B29C41/24 ,  B29C41/30 ,  C08J5/18 ,  G02B5/30 ,  B29L11/00 ,  B29L9/00 ,  B29L7/00 ,  B29K1/00

CPC classification number: G02B5/3058 ,  B29C39/20 ,  B29D11/0073 ,  B29D11/00788 ,  C08J5/18 ,  G02B5/3083

Abstract: 本发明提供了以高精度、高速制造大面积设置微细凹凸结构的薄片的方法，以及提供通过该方法制造的生产性、均匀性高的光学薄膜、线栅偏振组件和相位差薄膜。设置该凹凸结构的光学薄膜的制造方法的特征在于，包括如下工序：在设置凹凸结构的环形带或辊状模具上，涂布在溶剂中溶解了第1树脂的溶液，在模具上形成树脂溶液层的工序；在该树脂溶液层中的溶剂完全干燥前，将上述树脂溶液层、和包含吸收上述树脂溶液中的溶剂或通过该溶剂溶解的第2树脂的薄膜支持体贴合的工序；以及，在贴合该树脂溶液层和上述薄膜支持体的光学薄膜中的溶剂完全干燥前，从该模具剥离上述光学薄膜的工序。

公开(公告)号：CN101432113A

公开(公告)日：2009-05-13

申请号：CN200780014868.5

申请日：2007-04-23

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 佐藤彰 ,  大森滋人 ,  小山博和 ,  宫泽一宏 ,  岩垣贤 ,  佐藤浩一 ,  田坂公志 ,  冈繁树 ,  久保伸夫 ,  村上隆

IPC: B29C41/24 ,  B29C41/30 ,  C08J5/18 ,  G02B5/30 ,  B29K1/00 ,  B29L7/00 ,  B29L9/00 ,  B29L11/00

CPC classification number: G02B5/3058 ,  B29C39/20 ,  B29D11/0073 ,  B29D11/00788 ,  C08J5/18 ,  G02B5/3083

Abstract: 本发明提供了以高精度、高速制造大面积设置微细凹凸结构的薄片的方法，以及提供通过该方法制造的生产性、均匀性高的光学薄膜、线栅偏振组件和相位差薄膜。设置该凹凸结构的光学薄膜的制造方法的特征在于，包括如下工序：在设置凹凸结构的环形带或辊状模具上，涂布在溶剂中溶解了第1树脂的溶液，在模具上形成树脂溶液层的工序；在该树脂溶液层中的溶剂完全干燥前，将上述树脂溶液层、和包含吸收上述树脂溶液中的溶剂或通过该溶剂溶解的第2树脂的薄膜支持体贴合的工序；以及，在贴合该树脂溶液层和上述薄膜支持体的光学薄膜中的溶剂完全干燥前，从该模具剥离上述光学薄膜的工序。