公开(公告)号：CN101309955A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200680042859.2

申请日：2006-11-08

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 森永义章 ,  田中武志 ,  中嶋孝治 ,  小村崇信

IPC: C08J7/02 ,  C08J7/04 ,  B32B7/02 ,  B32B23/08 ,  B32B27/30 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11

CPC classification number: C08J7/02

Abstract: 本发明提供在长膜上涂布防反射层等功能性层时易产生的横向不均、涂布条纹、拖尾等涂布故障得到改善的光学膜的处理方法、光学膜的处理装置以及光学膜的制造方法。该光学膜的处理方法是用液体润湿连续搬运的长膜，用弹性体连续地磨擦该长膜后，除去该长膜表面的液体的光学膜的处理方法，其特征在于，该弹性体的表面的静磨擦系数为0.2～0.9。