公开(公告)号：CN101223025B

公开(公告)日：2010-06-09

申请号：CN200680025475.X

申请日：2006-07-04

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 森永义章 ,  中嶋孝治 ,  田中武志

IPC: B29C71/00 ,  B05D7/04 ,  B05C1/14 ,  C08J7/00 ,  B05D3/12 ,  G02B1/11

CPC classification number: C08J7/02 ,  C08J7/047 ,  C08J2321/00 ,  C08J2483/02

Abstract: 本发明的目的是提供一种光学薄膜的处理方法及光学薄膜的处理装置，通过该光学薄膜处理方法及光学薄膜处理装置，可改善在长条薄膜上涂布防止反射层等功能性层时容易产生的横纹、涂布条纹等涂布缺陷。本发明的光学薄膜的处理方法，是以经液体润湿后的弹性体擦拭所搬运的长条薄膜后，除去该长条薄膜表面的液体，其特征在于：该弹性体表面的静摩擦系数为0.2以上0.9以下。

公开(公告)号：CN101309955A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200680042859.2

申请日：2006-11-08

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 森永义章 ,  田中武志 ,  中嶋孝治 ,  小村崇信

IPC: C08J7/02 ,  C08J7/04 ,  B32B7/02 ,  B32B23/08 ,  B32B27/30 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11

CPC classification number: C08J7/02

Abstract: 本发明提供在长膜上涂布防反射层等功能性层时易产生的横向不均、涂布条纹、拖尾等涂布故障得到改善的光学膜的处理方法、光学膜的处理装置以及光学膜的制造方法。该光学膜的处理方法是用液体润湿连续搬运的长膜，用弹性体连续地磨擦该长膜后，除去该长膜表面的液体的光学膜的处理方法，其特征在于，该弹性体的表面的静磨擦系数为0.2～0.9。

公开(公告)号：CN101223025A

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN200680025475.X

申请日：2006-07-04

Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社

Inventor： 森永义章 ,  中嶋孝治 ,  田中武志

IPC: B29C71/00 ,  B05D7/04 ,  B05C1/14 ,  C08J7/00 ,  B05D3/12 ,  G02B1/11

CPC classification number: C08J7/02 ,  C08J7/047 ,  C08J2321/00 ,  C08J2483/02

Abstract: 本发明的目的是提供一种光学薄膜的处理方法及光学薄膜的处理装置，通过该光学薄膜处理方法及光学薄膜处理装置，可改善在长条薄膜上涂布防止反射层等功能性层时容易产生的横纹、涂布条纹等涂布缺陷。本发明的光学薄膜的处理方法，是以经液体润湿后的弹性体擦拭所搬运的长条薄膜后，除去该长条薄膜表面的液体，其特征在于：该弹性体表面的静摩擦系数为0.2以上0.9以下。