公开(公告)号：CN109041579B

公开(公告)日：2023-09-01

申请号：CN201780018547.6

申请日：2017-03-24

Applicant: 栗田工业株式会社 ,  旭化成株式会社

Inventor： 饭野秀章 ,  中田耕次 ,  金田真幸 ,  佐藤大辅

IPC: H01L21/304 ,  B01D61/14 ,  B01D71/26 ,  B01D71/56 ,  B01D71/68 ,  B01D71/76 ,  B01F23/237 ,  B01F21/00 ,  B01J41/07 ,  B01J41/13 ,  B01J41/14 ,  B01J47/12 ,  C02F1/44

Abstract: 本发明是在使用碳酸气体溶解水的湿式洗净工艺中，高度地去除混入于碳酸气体溶解水中的极微小微粒而防止微粒污染，并将被洗净物洗净成高洁净度。本发明的湿式洗净装置，其通过使碳酸气体溶解于超纯水而成的碳酸气体溶解水洗净被洗净物，其特征在于，其具有：碳酸气体溶解机构，该碳酸气体溶解机构使碳酸气体溶解于超纯水中；被洗净物的洗净机构，该被洗净物的洗净机构被供给来自该碳酸气体溶解机构的碳酸气体溶解水；及过滤膜模组，该过滤膜模组设置在将该碳酸气体溶解水供给至该洗净机构的配管上且填充具有阳离子性官能基的多孔性膜。

公开(公告)号：CN108779004A

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201780018206.9

申请日：2017-03-16

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 宫崎洋一 ,  饭野秀章 ,  深泽直树

IPC: C02F1/42 ,  B01J47/022 ,  B01J47/028 ,  B01J49/08

CPC classification number: B01J47/022 ,  B01J47/028 ,  B01J49/08 ,  C02F1/42

Abstract: 使用一种离子交换装置，该离子交换装置具有阴离子交换槽、阳离子交换槽以及塔体侧部，通过在阴离子交换槽和阳离子交换槽的外部绕回的连通机构将阴离子交换槽和阳离子交换槽连通，所述离子交换装置具有用于向阴离子交换槽的上部和下部供给液体或从阴离子交换槽的上部和下部排出液体的供排配管、以及用于向所述阳离子交换槽的上部和下部供给液体或从所述阳离子交换槽的上部和下部排出液体的供排配管，平板配置有让水通过而阻止离子交换树脂通过的集配水部件，上部供排配管、第一连通配管、第二连通配管以及下部供排配管的末端分别与该集配水部件连接。

公开(公告)号：CN117916860A

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202280060622.6

申请日：2022-03-17

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 饭野秀章

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明的半导体制造用液体供给装置(1)具有与超纯水(W)的供给源连通的供给管(2)、设置于该供给管(2)的中途的电导率调节剂供给机构(3)以及氧化还原电位调节剂供给机构(4)、膜式脱气装置(5)以及微粒去除过滤器(6)。供给管(2)分支为主配管(7)和排水配管(8)。在主配管(7)上设置有第一瞬时流量计(10)，主配管(7)还与单张式晶片洗涤装置(9)连通。在排水配管(8)上设置有第二瞬时流量计(11)，还设置有流量调整阀(12)。另外，在膜式脱气装置(5)与微粒去除过滤器(6)之间设置有传感器部(13)。而且，控制机构(15)能够对流量调整阀(12)进行控制。根据本发明，即使晶片洗涤装置中使用的流量变动也能够将半导体制造用液体的溶质浓度高精度地稳定在所期望的值并进行供给。

公开(公告)号：CN110167661A

公开(公告)日：2019-08-23

申请号：CN201780082842.8

申请日：2017-09-15

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 饭野秀章

IPC: B01F3/08 ,  B01F15/04 ,  B01J4/02 ,  H01L21/304

Abstract: 一种规定浓度水的供给方法及装置，该规定浓度水的供给方法是在超纯水中添加导电性的第1液及非导电性的第2液至少2种液体来制造含有规定浓度的第1液成分及第2液成分的规定浓度水的工序，在所述规定浓度水的供给方法中，事先制备将所述第1液与第2液预先以规定混合比混合而成的混合液，将该混合液添加至超纯水，以使添加后的超纯水的导电率或电阻率成为规定值。

公开(公告)号：CN108779006A

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201780019033.2

申请日：2017-03-24

Applicant: 栗田工业株式会社 ,  旭化成株式会社

Inventor： 川胜孝博 ,  饭野秀章 ,  金田真幸 ,  佐藤大辅

IPC: C02F1/44 ,  B01D61/16 ,  B01D63/02 ,  B01D69/02 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/58 ,  C02F9/02 ,  C02F9/04 ,  C02F9/12

CPC classification number: B01D61/16 ,  B01D63/02 ,  B01D69/02 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/58

Abstract: 本发明提供一种超纯水制造系统，其能够除去水中的粒径20nm以下、特别是10nm以下的微粒，能够高效率且高水量制造超纯水。超纯水制造系统具备预备处理装置、及处理该预备处理装置的处理水的全量过滤装置。该预备处理装置以其处理水中的微粒数成为800～1200个/mL(粒径20nm以上)的方式进行处理。全量过滤装置作为过滤膜具备精密过滤膜或超滤膜，精密过滤膜的膜表面的孔径在0.05～1μm的范围的细孔的开口率为50～90％，膜厚为0.1～1mm；超滤膜的膜表面的孔径在0.005～0.05μm的范围的细孔数为1E13～1E15个/m2，膜厚为0.1～1mm，透过流束为10m3/m2/天时的膜间差压为0.02～0.10MPa。

公开(公告)号：CN113631242A

公开(公告)日：2021-11-09

申请号：CN202080024567.6

申请日：2020-03-12

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 田中洋一 ,  藤村侑 ,  饭野秀章 ,  川胜孝博

IPC: B01D61/18 ,  B01D61/58 ,  B01D69/02

Abstract: 一种微粒去除装置，具有去除液体中的微粒的膜，所述微粒去除装置的特征在于，串联配置具有正电荷的精密过滤膜或超滤膜、以及具有负电荷的精密过滤膜或超滤膜。一种微粒去除方法，使用所述装置。可按照具有负电荷的膜、具有正电荷的膜的顺序通液，由此，能够高水平地去除液体中的粒径为50nm以下特别是10nm以下的极微小的微粒。也可按照与上述相反的顺序来通液。

公开(公告)号：CN102497922A

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN201080041555.0

申请日：2010-09-16

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 寺嵨光春 ,  饭野秀章

IPC: B01F5/06 ,  B01F3/04 ,  B01F3/08 ,  B01F3/12 ,  B01F5/00 ,  F17D5/02

CPC classification number: B01F3/1228 ,  B01F5/0611 ,  B01F15/00019 ,  B01F15/00123 ,  B01F15/00162

Abstract: 一种混合效率高且即使挂住夹杂物也容易将其去除的流体混合装置及方法。在从配管2将向流动在配管1中的液体添加液体或粉体等后，使它们通过半开状态的多个球阀3A～3C进行混合。各球阀3A～3C的绕轴心的相位具有角度差θ。不需设置复杂形状的静态混合器就能够良好地进行混合。而且，当被夹杂物堵塞时，可通过开启阀来解除夹杂物。

公开(公告)号：CN114365269A

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN202080063077.7

申请日：2020-09-15

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 饭野秀章

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  B08B13/00

Abstract: 稀药液供给装置(1)包括：调制稀药液(W1)的稀药液调制部(2)；所调制的稀药液的贮存槽(3)；将贮存于该贮存槽(3)的稀药液(W1)作为清洗水(W2)，向多台单张式清洗机(5A、5B、5C)供给的稀药液调节供给机构(4)；以及分别与单张式清洗机(5A、5B、5C)连接并将该单张式清洗机的剩余水回流至贮存槽(3)的回送机构。如果是这样的稀药液供给装置，则能高精度地调节稀药液的溶质浓度，且能够抑制剩余水的排出，适用于晶片等的清洗。

公开(公告)号：CN109041579A

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：CN201780018547.6

申请日：2017-03-24

Applicant: 栗田工业株式会社 ,  旭化成株式会社

Inventor： 饭野秀章 ,  中田耕次 ,  金田真幸 ,  佐藤大辅

IPC: H01L21/304 ,  B01D61/14 ,  B01D71/26 ,  B01D71/56 ,  B01D71/68 ,  B01D71/76 ,  B01F1/00 ,  B01J41/07 ,  B01J41/13 ,  B01J41/14 ,  B01J47/12 ,  C02F1/44

CPC classification number: B01D61/14 ,  B01D71/26 ,  B01D71/56 ,  B01D71/68 ,  B01D71/76 ,  B01F1/00 ,  B01J41/07 ,  B01J41/13 ,  B01J41/14 ,  B01J47/12 ,  C02F1/44 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明是在使用碳酸气体溶解水的湿式洗净工艺中，高度地去除混入于碳酸气体溶解水中的极微小微粒而防止微粒污染，并将被洗净物洗净成高洁净度。本发明的湿式洗净装置，其通过使碳酸气体溶解于超纯水而成的碳酸气体溶解水洗净被洗净物，其特征在于，其具有：碳酸气体溶解机构，该碳酸气体溶解机构使碳酸气体溶解于超纯水中；被洗净物的洗净机构，该被洗净物的洗净机构被供给来自该碳酸气体溶解机构的碳酸气体溶解水；及过滤膜模组，该过滤膜模组设置在将该碳酸气体溶解水供给至该洗净机构的配管上且填充具有阳离子性官能基的多孔性膜。

公开(公告)号：CN105517960A

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201480048799.X

申请日：2014-09-30

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 福井长雄 ,  森田博志 ,  田中洋一 ,  饭野秀章 ,  山田聪

IPC: C02F1/44 ,  B01D61/08 ,  B01D61/18 ,  B01D61/58

Abstract: 本发明提供一种可稳定地制造微粒经高度去除的高水质的超纯水的超纯水制造装置。本发明的超纯水制造装置，其具有从一次纯水制造超纯水的次系统，在该次系统的最终段中设置有膜装置，其特征在于，该膜装置是以串联的方式设置有多段，并且，第1段的膜装置为UF膜装置、MF膜装置或RO膜装置，最终段的膜装置为UF膜装置或未经离子交换基修饰的MF膜装置。