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公开(公告)号:CN107528210B
公开(公告)日:2021-01-26
申请号:CN201710450281.4
申请日:2017-06-15
Applicant: 株式会社三丰
Abstract: 本发明公开了激光调节方法和激光源装置。该激光调节方法包括第一调节步骤和第二调节步骤。在第一调节步骤中,使用检测二次谐波光的光检测器检测二次谐波光的光强度和波长,并调节第一温度调节器,以调节Nd:YVO4晶体和KTP晶体的温度,使得检测的二次谐波光的波长接近所需波长,并且二次谐波光的光强度至少达到预定值。在第一调节步骤之后的第二调节步骤中,使用第二温度调节器调节校准器的温度,使得检测的二次谐波光的波长接近所需波长,并且二次谐波光的光强度至少达到预定值。
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公开(公告)号:CN107528210A
公开(公告)日:2017-12-29
申请号:CN201710450281.4
申请日:2017-06-15
Applicant: 株式会社三丰
Abstract: 本发明公开了激光调节方法和激光源装置。该激光调节方法包括第一调节步骤和第二调节步骤。在第一调节步骤中,使用检测二次谐波光的光检测器检测二次谐波光的光强度和波长,并调节第一温度调节器,以调节Nd:YVO4晶体和KTP晶体的温度,使得检测的二次谐波光的波长接近所需波长,并且二次谐波光的光强度至少达到预定值。在第一调节步骤之后的第二调节步骤中,使用第二温度调节器调节校准器的温度,使得检测的二次谐波光的波长接近所需波长,并且二次谐波光的光强度至少达到预定值。
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