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公开(公告)号：CN117919860A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202310538175.7
申请日：2023-05-12
Applicant: 株式会社不二制作所
Abstract: 本发明旨在用相对简单且安全的方法将设置于喷射装置1中的集尘器30的风量维持为恒定。检测集尘器30的集尘过滤器33的副级侧流动路径36的预定位置中的压差ΔP(空间38内的压力与大气压之间的压差ΔP1)；并且执行如下的风量控制，在该风量控制中，利用逆变器61通过PID控制来控制设置于集尘器30的排气装置31中的风扇电机312的转速和由风扇电机312驱动的风扇311，籍此，使基于所检测到的压差ΔP而被掌控的集尘器30的流动风量Q接近预设的目标风量Q0。
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公开(公告)号：CN111660206B
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN201911173565.9
申请日：2019-11-26
Applicant: 株式会社不二制作所
Abstract: 本发明涉及DLC涂层构件的表面处理方法，该方法包括：将DLC涂层构件当作处理对象，所述DLC涂层构件具有涂在基材表面上的DLC膜；以0.01MPa～0.7MPa的喷射压力，将中位直径为1μm～20μm且穿过空气的下落时间不小于10s/m的大致球形的喷射颗粒喷射到所述构件的所述膜的表面上；以及在不露出所述基材的情况下，在所述膜的所述表面上形成凹坑，使得所述凹坑的总投影面积不小于处理区域的50％，并且使得所述DLC膜的所述表面被加工成算术平均高度(Sa)为0.01μm～0.1μm并且纹理纵横比(Str)不小于0.4。
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公开(公告)号：CN109251061B
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN201810749536.1
申请日：2018-07-10
Applicant: 株式会社不二制作所
IPC: C04B41/91
Abstract: 本发明提供了一种能够使用比较简单的方法以低成本提高陶瓷表面的滑动性的表面处理方法。通过在0.01MPa～0.7MPa的喷射压力下，将具有1μm～20μm的中值直径d50(对应于根据JIS R 6001(1987)的“累计高度50％点处的粒径”)的基本上球形的喷射粒子与压缩气体一起喷射而在处理区域的表面上形成凹坑，所述处理区域的表面是待进行表面处理的陶瓷表面的一部分，从而实现最快衰减自相关长度(Sal)(ISO 25178)不小于10的值。所述凹坑形成为具有其中水平费雷特直径(lx)与垂直费雷特直径(ly)之间的比值(lx/ly)为0.7～1.43的平面图轮廓。因此，无论使用或不使用润滑剂，都可以获得具有改善的滑动性的陶瓷表面。
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公开(公告)号：CN107848150B
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201580081735.4
申请日：2015-08-11
Applicant: 株式会社不二制作所
Abstract: 本发明涉及模具的表面处理方法和利用所述方法处理的模具。提供应用于任意材质的模具时都能够得到脱模性的大幅提高的模具的表面处理方法。本发明对模具的表面喷射大致球状的喷射材料并使喷射材料撞击所述表面，在所述表面形成凹坑，所述凹坑具有满足下式规定的条件的直径(W)和深度(D)。1+3.3e‑H/230≤W≤3+13.4e‑H/1060…(式1)0.01+0.2e‑H/230≤D≤0.01+1.1e‑H/500…(式2)其中，W为凹坑的当量直径(μm)，D为凹坑的深度(μm)，H为模具的母材硬度(Hv)。
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公开(公告)号：CN109154057B
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN201780030919.7
申请日：2017-05-15
Applicant: 株式会社不二制作所
Abstract: 本发明提供一种表面处理方法，对于硬质、软质无论哪种金属制品，都能够沿表面连续地形成均匀的纳米晶组织。以0.05MPa～0.5MPa的喷射压力对金属制品喷射大致球状的喷射颗粒，所述喷射颗粒是中值粒径为1～20μm、在空气中的落下时间为10秒/米以上的大致球状的喷射颗粒。由此，即使对软质材料制的金属制品也不会产生层状加工组织，能够沿着所述金属制品的表面在距表面规定深度的范围内连续且均匀地形成纳米晶组织层，所述纳米晶组织层的纳米晶的平均结晶粒径微小化到300nm以下，优选的是100nm以下，并且能够赋予约－180MPa～最大－1200MPa范围的高的压缩残余应力，能够实现金属制品的表面强化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111660207A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010122426.X
申请日：2020-02-27
Applicant: 株式会社不二制作所
IPC: B24C1/00 , B24B1/00 , B23K26/38 , B23K26/362 , B23K26/352
Abstract: 本发明旨在提供粉末接触构件及粉末接触构件的表面处理方法，即使在与表面接触的粉末不仅是单个颗粒的形式而且是层的形式时，所述粉末接触构件也能够防止粉末的粘附，并且所述粉末接触构件具有高的流动性。本发明的粉末接触构件具有与粉末接触的表面并且在所述表面上进行表面处理，所述粉末接触构件的特征在于，所述表面的算术平均峰曲率Spc(1/mm)为150～400，所述表面的峰密度Spd(个/mm2)为10000～180000，所述表面的均方根梯度Sdq为0.05～0.30，并且所述表面的算术平均高度Sa(μm)为0.02～3.00。
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公开(公告)号：CN110281160A
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201910159501.7
申请日：2019-03-04
Applicant: 株式会社不二制作所
IPC: B24C1/10
Abstract: 一种由硬脆性材料制成的工件的表面处理方法，其包括：采用硬度高于工件的基材的硬度的磨粒进行第一次喷砂，用于在工件的表面上形成三维凹凸轮廓，该三维凹凸轮廓具有突出部和在该突出部之间形成的凹陷部；以及采用具有以下结构的弹性磨料进行第二次喷砂：其中磨粒承载在由具有低回弹性的材料制成的弹性主体中和/或上，用于对形成有凹凸轮廓的工件的表面进行抛光，从而实现在工件的突出部和凹陷部的表面上的算术平均粗糙度Ra不大于1.6μm，同时保持通过第一次喷砂形成的凹凸轮廓。
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公开(公告)号：CN109304675A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201810239260.2
申请日：2018-03-22
Applicant: 株式会社不二制作所
Abstract: 本发明旨在提供一种通过后处理在诸如陶瓷等硬脆性材料的表面上相对简单地形成凹坑的方法。在所述方法中，在0.01MPa～0.7MPa的喷射压力下，将具有1μm～20μm的中值直径d50的基本上球形的喷射粒子与压缩气体一起喷射到作为在由硬脆性材料制成的制品的表面或具有涂覆有硬脆性材料的涂层的表面的制品表面等上将要形成所述凹坑的区域的凹坑形成区域，以便通过塑性变形在所述硬脆性材料的表面上形成所述凹坑，而不会出现断裂或裂纹。
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公开(公告)号：CN109154057A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780030919.7
申请日：2017-05-15
Applicant: 株式会社不二制作所
Abstract: 本发明提供一种表面处理方法，对于硬质、软质无论哪种金属制品，都能够沿表面连续地形成均匀的纳米晶组织。以0.05MPa～0.5MPa的喷射压力对金属制品喷射大致球状的喷射颗粒，所述喷射颗粒是中值粒径为1～20μm、在空气中的落下时间为10秒/米以上的大致球状的喷射颗粒。由此，即使对软质材料制的金属制品也不会产生层状加工组织，能够沿着所述金属制品的表面在距表面规定深度的范围内连续且均匀地形成纳米晶组织层，所述纳米晶组织层的纳米晶的平均结晶粒径微小化到300nm以下，优选的是100nm以下，并且能够赋予约－180MPa～最大－1200MPa范围的高的压缩残余应力，能够实现金属制品的表面强化。
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公开(公告)号：CN111660206A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201911173565.9
申请日：2019-11-26
Applicant: 株式会社不二制作所
Abstract: 本发明涉及DLC涂层构件的表面处理方法，该方法包括：将DLC涂层构件当作处理对象，所述DLC涂层构件具有涂在基材表面上的DLC膜；以0.01MPa～0.7MPa的喷射压力，将中位直径为1μm～20μm且穿过空气的下落时间不小于10s/m的大致球形的喷射颗粒喷射到所述构件的所述膜的表面上；以及在不露出所述基材的情况下，在所述膜的所述表面上形成凹坑，使得所述凹坑的总投影面积不小于处理区域的50％，并且使得所述DLC膜的所述表面被加工成算术平均高度(Sa)为0.01μm～0.1μm并且纹理纵横比(Str)不小于0.4。
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