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公开(公告)号：CN102030306B
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201010287644.5
申请日：2010-09-20
Applicant: 株式会社东芝 , 培尔梅烈克电极股份有限公司 , 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 根据一个实施方案，公开了一种清洗方法。该方法通过电解稀硫酸溶液可以制备包括氧化物质的氧化溶液。另外，该方法可以向待清洗物体表面单独地、按顺序地或基本上同时地供给高浓缩无机酸溶液和氧化溶液。
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公开(公告)号：CN102102211B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201010591444.9
申请日：2010-12-16
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: C25B1/22 , C25B9/08 , G03F1/80 , G03F7/423 , H01L21/02057 , H01L21/31133 , H01L21/6708
Abstract: 在一个实施方案中，公开了一种蚀刻方法。该方法可以包括通过电解硫酸溶液产生氧化性物质、和通过控制氧化性物质的生成量来产生具有规定的氧化剂浓度的蚀刻溶液。该方法可包括将所生产的蚀刻溶液供应到工件表面。
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公开(公告)号：CN102031203B
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201010287629.0
申请日：2010-09-20
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: H01L21/31133 , G03F7/423 , H01L21/67051
Abstract: 根据实施方案，一种清洗液包括氧化物质和氢氟酸，并且显示出酸性。公开了一种清洗方法。该方法包括制备一种包括氧化物质的氧化溶液，通过选自电解硫酸溶液、电解加入硫酸溶液中的氢氟酸以及混合硫酸溶液和过氧化氢水溶液中的一种来制备。该方法包括向待清洗物体的表面提供氧化溶液和氢氟酸。
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公开(公告)号：CN102031203A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010287629.0
申请日：2010-09-20
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: H01L21/31133 , G03F7/423 , H01L21/67051
Abstract: 根据实施方案，一种清洗液包括氧化物质和氢氟酸，并且显示出酸性。公开了一种清洗方法。该方法包括制备一种包括氧化物质的氧化溶液，通过选自电解硫酸溶液、电解加入硫酸溶液中的氢氟酸以及混合硫酸溶液和过氧化氢水溶液中的一种来制备。该方法包括向待清洗物体的表面提供氧化溶液和氢氟酸。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102030306A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010287644.5
申请日：2010-09-20
Applicant: 株式会社东芝 , 氯工程株式会社 , 芝浦机械电子株式会社
IPC: B81C1/00
Abstract: 根据一个实施方案，公开了一种清洗方法。该方法通过电解稀硫酸溶液可以制备包括氧化物质的氧化溶液。另外，该方法可以向待清洗物体表面单独地、按顺序地或基本上同时地供给高浓缩无机酸溶液和氧化溶液。
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公开(公告)号：CN102102211A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN201010591444.9
申请日：2010-12-16
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社 , 氯工程株式会社
CPC classification number: C25B1/22 , C25B9/08 , G03F1/80 , G03F7/423 , H01L21/02057 , H01L21/31133 , H01L21/6708
Abstract: 在一个实施方案中，公开了一种蚀刻方法。该方法可以包括通过电解硫酸溶液产生氧化性物质、和通过控制氧化性物质的生成量来产生具有规定的氧化剂浓度的蚀刻溶液。该方法可包括将所生产的蚀刻溶液供应到工件表面。
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公开(公告)号：CN103380232B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201180068101.7
申请日：2011-11-21
Applicant: 培尔梅烈克电极股份有限公司
CPC classification number: C25B11/0447 , C25B1/285 , C25B1/30
Abstract: 本发明涉及导电性金刚石电极，其由导电性基体以及覆盖所述导电性基体表面的导电性金刚石层构成，其中，1)所述导电性金刚石层的厚度是1～25μm；2)电位窗满足式(1)：2.1V≤电位窗≤3.5V(1)；3)通过拉曼光谱分析得到的金刚石成分A与非金刚石成分B之比(A/B)满足式(2)：1.5＜A/B≤6.5(2)(A＝拉曼光谱分析中波数1300cm?1处的强度，B＝拉曼光谱分析中波数1500cm?1处的强度)。根据上述本发明，通过控制导电性金刚石层的膜厚以及导电性金刚石的结晶性，能够得到电极的耐久性高、且在低电池电压下的氧化性物质生成效率高的导电性金刚石电极、以及使用其的硫酸电解方法、硫酸电解装置。
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公开(公告)号：CN110294457B
公开(公告)日：2023-02-21
申请号：CN201910202536.4
申请日：2019-03-18
Applicant: 株式会社东芝 , 迪诺拉永久电极股份有限公司
IPC: C01B3/52 , C25B1/04 , C25B15/00 , C25B15/08 , H01M8/0656
Abstract: 本发明提供将电解中使用的水溶液的溶质成分有效地除去的洗涤器、氢制造装置及供电系统。洗涤器是从对水溶液进行电解而获得的氢气中将所述水溶液的溶质成分除去的洗涤器。所述洗涤器具备：所述氢气流入、排出所述氢气的壳体；配置在所述壳体内、形成有贯穿孔的隔板；以及通过所述隔板、将经冷却的洗涤液作为液流供给至所述壳体内的所述氢气中的洗涤液供给机构。
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公开(公告)号：CN110294457A
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201910202536.4
申请日：2019-03-18
Applicant: 株式会社东芝 , 迪诺拉永久电极股份有限公司
IPC: C01B3/52 , C25B1/04 , C25B15/00 , H01M8/0656
Abstract: 本发明提供将电解中使用的水溶液的溶质成分有效地除去的洗涤器、氢制造装置及供电系统。洗涤器是从对水溶液进行电解而获得的氢气中将所述水溶液的溶质成分除去的洗涤器。所述洗涤器具备：所述氢气流入、排出所述氢气的壳体；配置在所述壳体内、形成有贯穿孔的隔板；以及通过所述隔板、将经冷却的洗涤液作为液流供给至所述壳体内的所述氢气中的洗涤液供给机构。
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