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公开(公告)号：CN100490066C
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200580025934.X
申请日：2005-11-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G12B5/00 , G03F9/00 , H01L21/68
CPC classification number: G12B5/00 , G03F7/70341 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/709 , H01L21/682
Abstract: 本发明提供一种移动体系统、曝光装置及组件制造方法。由于通过制动器机构(48A，48B)来阻止晶片载台(WTB)与测量载台(MTB)较预定距离更接近，且能通过驱动机构(34A)解除该制动器机构之阻止作用，因此例如当独立驱动X轴固定件(81，80)时，即使假设有两个载台之至少一方失控的情形，制动器机构亦能阻止各载台彼此之接触，而例如当载台彼此较预定距离更接近时，通过解除机构来解除制动器机构之阻止作用，能在没有制动机构之妨碍的状态下使两载台接近。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101576716A
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200910132529.8
申请日：2005-11-24
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G12B5/00 , G03F7/70341 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/709 , H01L21/682
Abstract: 本发明提供一种移动体系统、曝光装置及组件制造方法。由于通过制动器机构(48A，48B)来阻止晶片载台(WTB)与测量载台(MTB)较预定距离更接近，且能通过驱动机构(34A)解除该制动器机构之阻止作用，因此例如当独立驱动X轴固定件(81，80)时，即使假设有两个载台之至少一方失控的情形，制动器机构亦能阻止各载台彼此之接触，而例如当载台彼此较预定距离更接近时，通过解除机构来解除制动器机构之阻止作用，能在没有制动机构之妨碍的状态下使两载台接近。
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公开(公告)号：CN101390194A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200780006184.0
申请日：2007-06-28
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 依田安史
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/70925 , G03F7/70975
Abstract: 一种能有效率地进行使用液浸法进行曝光的曝光装置的维修的维修方法。曝光装置透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(1)以曝光用光使该基板曝光，其包含：与形成液浸区域(AR2)的嘴构件(30)对向配置测量台(MTB)的移动步骤，使用嘴构件(30)对测量台(MTB)上供应液体(1)、将此供应的液体蓄积至圆筒部(91)内的蓄积步骤，以及朝向含以液浸法进行曝光时与有可能与液体(1)接触的液体接触部的至少部分区域、将以该蓄积步骤蓄积的液体(1)从喷射嘴部(90)喷出的洗净步骤。
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公开(公告)号：CN104919371A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201280078120.2
申请日：2012-12-28
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 依田安史
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70133 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70775 , G03F7/7085
Abstract: 一种曝光装置，具备两个载台(WST1、WST2)，能彼此独立地移动，且具有于载置园片(wafer)(W)的面下方的位置分别设有光栅(RG)的台(WTB)；以及测量载台(MST)，其能与两个载台独立地移动，并且根据通过光学系统接收的能量束的受光结果进行与曝光相关联的测量。在曝光站(200)及测量站(300)中，分别设有第1、第2测量系统，通过对载台的光栅从下方照射测量光束，测量载台所具有的台的位置。
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公开(公告)号：CN101390194B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200780006184.0
申请日：2007-06-28
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 依田安史
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/70925 , G03F7/70975
Abstract: 一种能有效率地进行使用液浸法进行曝光的曝光装置的维修的维修方法。曝光装置透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(1)以曝光用光使该基板曝光，其包含：与形成液浸区域(AR2)的嘴构件(30)对向配置测量台(MTB)的移动步骤，使用嘴构件(30)对测量台(MTB)上供应液体(1)、将此供应的液体蓄积至圆筒部(91)内的蓄积步骤，以及朝向含以液浸法进行曝光时与有可能与液体(1)接触的液体接触部的至少部分区域、将以该蓄积步骤蓄积的液体(1)从喷射嘴部(90)喷出的洗净步骤。
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公开(公告)号：CN1993803A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200580025934.X
申请日：2005-11-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G12B5/00 , G03F9/00 , H01L21/68
CPC classification number: G12B5/00 , G03F7/70341 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/709 , H01L21/682
Abstract: 本发明提供一种移动体系统、曝光装置及组件制造方法。由于通过制动器机构(48A，48B)来阻止晶片载台(WTB)与测量载台(MTB)较预定距离更接近，且能通过驱动机构(34A)解除该制动器机构之阻止作用，因此例如当独立驱动X轴固定件(81，80)时，即使假设有两个载台之至少一方失控的情形，制动器机构亦能阻止各载台彼此之接触，而例如当载台彼此较预定距离更接近时，通过解除机构来解除制动器机构之阻止作用，能在没有制动机构之妨碍的状态下使两载台接近。
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