公开(公告)号：CN101006573A

公开(公告)日：2007-07-25

申请号：CN200580027964.4

申请日：2005-10-21

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 平柳德行

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/673

CPC classification number: G03F1/62 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/48 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70983 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67742

Abstract: 本发明公开了一种用于对形成有图案的基板进行运送的基板运送装置、基板运送方法以及具有基板运送装置的曝光装置，其目的是在基板使用时能够轻松、确实地防止保护罩的内面受到污染。此基板运送装置为将形成有图案的基板进行运送的基板运送装置，并在不使用前述基板时将前述基板在利用保护罩进行保护的状态下进行运送的基板运送装置，其中，具有当使用前述基板时覆盖前述保护罩的内面的罩壳保护装置。

公开(公告)号：CN101002306A

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200580027407.2

申请日：2005-12-21

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 平柳德行 ,  田中庆一

IPC: H01L21/027 ,  G03B21/00 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70358 ,  G03F7/70783 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034

Abstract: 一种曝光装置中掩模M表面的高度方向位置测定方法，此曝光装置具有一种转印功能，以借由投影光学系统使掩模M上已形成的图案转印至晶圆等的感应基板上，其特征为：在测定该掩模M的高度方向位置所进行的测定之前使配置在掩模M和投影光学系统之间曝光时规定该曝光区域所用的曝光区域规定构件1移动。本发明在即使存在着曝光区域规定构件时，由于可使曝光区域规定构件退避，仍可对掩模表面的所定部份的高度方向位置进行测定。

公开(公告)号：CN1424627A

公开(公告)日：2003-06-18

申请号：CN02154533.2

申请日：2002-12-06

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 平柳德行

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70741 ,  G03F1/38 ,  G03F7/70875 ,  H01J2237/3175 ,  H01L21/67769 ,  Y10S414/139

Abstract: 本发明提供一种能容易地进行掩模交换和温度管理的曝光方法和曝光装置。在真空初缩掩模版库64上设有用于承载放置被搬运的初缩掩模版的多级初缩掩模版台68。在该初缩掩模版台68内形成液道68a。通过使温度调节用的水流过初缩掩模版台68的液道68a，可以对初缩掩模版台上的初缩掩模版进行温度调节。另一方面，在大气初缩掩模版库66上设有多级初缩掩模版台69。初缩掩模版容器67分别放置在各初缩掩模版台69上。在初缩掩模版容器67和各初缩掩模版上贴有条形码70。当搬运初缩掩模版时，通过读取贴在初缩掩模版上的条形码70，可以对所搬运的初缩掩模版进行确认。